[发明专利]用于光学干涉计的镜板及光学干涉计

说明书

一种用于法布里‑珀罗干涉计(300)的镜板(100)包括：‑基底(50)，其包括硅(Si)，‑在基底(50)上实施的半透明反射涂层(110)，‑在基底(50)上形成的去耦结构(DC1)，‑在去耦结构(DC1)之上形成的第一传感器电极(G1a)，以及‑第二传感器电极(G1b)，其中去耦结构(DC1)包括电绝缘层(60a)，以及第一稳定电极(G0a)，其位于第一传感器电极(G1a)与基底(50)之间。

技术领域

一些变型涉及法布里-珀罗干涉计。

背景技术

法布里-珀罗干涉计包括第一半透明镜和第二半透明镜，它们布置成形成光学腔。法布里-珀罗干涉计可提供一个或多个透射峰。透射峰的光谱位置可通过改变镜之间的距离来改变。镜之间的距离可称为镜间隙或称为镜间距。执行光谱测量可包括确定透射峰的光谱位置。干涉计可包括用于监测可调整的镜间隙的电容传感器。例如，干涉计的透射峰的光谱位置可通过监测电容传感器的电容来确定。

发明内容

一些变型涉及一种法布里-珀罗干涉计。一些变型涉及一种用于法布里-珀罗干涉计的镜板。一些变型涉及一种包括法布里-珀罗干涉计的设备。一些变型涉及一种生产用于法布里-珀罗干涉计的镜板的方法。一些变型涉及一种用于确定法布里-珀罗干涉计的光谱位置的方法。一些变型涉及一种生产法布里-珀罗干涉计的方法。一些变型涉及通过法布里-珀罗干涉计测量光谱数据。一些变型涉及校准法布里-珀罗干涉计。

根据一个方面，提供了一种用于法布里-珀罗干涉计(300)的镜板(100)，镜板(100)包括：

-基底(50)，其包括硅(Si)，

-在基底(50)上实施的半透明反射涂层(110)，

-在基底(50)上形成的去耦结构(DC1)，

-在去耦结构(DC1)之上形成的第一传感器电极(G1a)，以及

-第二传感器电极(G1b)，

其中去耦结构(DC1)包括电绝缘层(60a)，以及第一稳定电极(G0a)，其位于第一传感器电极(G1a)与基底(50)之间。

根据一个方面，提供了一种用于生产用于法布里-珀罗干涉计(300)的镜板(100)的方法，该方法包括：

-提供基底(50)，其包括硅，

-在基底(50)上实施半透明反射涂层(110)，

-在基底(50)上形成去耦结构(DC1)，

-在去耦结构(DC1)之上形成第一传感器电极(G1a)，以及

-形成由基底(50)支撑的第二传感器电极(G1b)，

其中去耦结构(DC1)包括电绝缘层(60a)，以及第一稳定电极(G0a)，其位于第一传感器电极(G1a)与基底(50)之间。

根据一个方面，提供了一种法布里-珀罗干涉计(300)，其包括第一镜板(100)和第二镜板(200)，第一镜板(100)包括：

-基底(50)，其包括硅，

-在基底(50)上实施的半透明反射涂层(110)，

-在基底(50)上或其中形成的去耦结构(DC1)，

-在去耦结构(DC1)之上形成的第一传感器电极(G1a)，以及

-第二传感器电极(G1b)，