[发明专利]辐射处理系统及方法

权利要求书

1.一种具有细长形状和中心纵轴的辐射处理单元，包括：

(a)第一管组件，包括：

-第一盘管，用于通过待处理流体并具有限定第一圆柱形空腔的第一线圈内圆柱形表面；

-设置在所述第一圆柱形空腔内的第一辐射源；和

-支撑至少所述第一盘管的第一支撑组件，

(b)第二管组件，包括：

-第二盘管，用于通过待处理流体并具有限定第二圆柱形空腔的第二线圈内圆柱形表面，

-第二辐射源，设置在所述第二圆柱形空腔内；和

-支撑至少所述第二盘管的第二支撑组件；

所述第二管组件被构造成同轴地插入所述第一圆柱形空腔内，使得所述第二盘管设置在所述第一辐射源和所述第二辐射源之间，使得通过所述第一盘管的流体暴露于第一辐射源的内部辐射并且通过所述第二盘管的流体暴露于来自所述第一辐射源的外部辐射和来自所述第二辐射源的内部辐射。

2.根据权利要求1所述的辐射处理单元，其中所述辐射处理单元的参数使得在其通过所述第一盘管的期间施加到第一处理后流体的辐射剂量基本上等于在其通过所述第二盘管的期间施加到第二处理后流体的辐射剂量。

3.根据权利要求2所述的辐射处理单元，其中所述参数选自由以下构成的组：第一辐射源的强度，第二辐射源的强度，暴露于通过所述第一盘管的流体的第一辐射源的时间，暴露于通过所述第二盘管的流体的第二辐射源的时间，所述第一盘管的内径和/或外径，所述第二盘管的内径和/或外径，由所述第一盘管限定的第一线圈的外径，由所述第二盘管限定的第二线圈的外径，通过所述第一盘管的流体的流量和通过所述第二盘管的流体的流量。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的辐射处理单元，还包括构造成用于支撑所述第一管组件和所述第二管组件的单元保持组件。

5.根据权利要求4所述的辐射处理单元，其中所述单元保持组件构造成允许所述第一管组件和所述第二管组件中的至少一个相对于所述第一管组件和所述第二管组件中的另一个的轴向移动。

6.根据权利要求5所述的辐射处理单元，其中所述单元保持组件包括允许所述第一管组件相对于所述第二管组件沿着所述纵轴滑动从而允许进入所述第二管组件的滑动机构。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的辐射处理单元，其中所述第一支撑组件包括邻近所述辐射处理单元的端部设置的一对第一端部支撑件和在所述第一端部支撑件之间延伸并构造成保持所述第一盘管的多个第一杆。

8.根据权利要求7所述的辐射处理单元，其中所述第一辐射源被配置成固定到所述第一端部支撑件。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的辐射处理单元，其中所述第二支撑组件包括邻近所述辐射处理单元的端部设置的一对第二端部支撑件和在所述第二端部支撑件之间延伸并构造成保持所述第二盘管的多个第二杆。

10.根据权利要求9所述的辐射处理单元，其中所述第二辐射源被配置为固定到所述第二端部支撑件。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的辐射处理单元，其中所述第一辐射源和第二辐射源与所述第二盘管等距隔开。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的辐射处理单元，其中单个支撑组件用作所述第一支撑组件和所述第二支撑组件两者。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的辐射处理单元，其中所述第一盘管和第二盘管与所述第一辐射源等距隔开。