[发明专利]聚合物组合物或预聚物组合物或者包含此类组合物的压花漆及其用途有效
申请号: | 201580075848.3 | 申请日: | 2015-12-09 |
公开(公告)号: | CN107533287B | 公开(公告)日: | 2021-06-01 |
发明(设计)人: | D·内斯;M·莱特格布;B·施塔德洛贝尔;S·鲁特洛夫;A·林彻尼格;瓦伦丁·扎青格 | 申请(专利权)人: | 约阿内研究有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/027;G03F7/029;G03F7/00;G03F7/031;G03F7/075 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李振东;过晓东 |
地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚合物 组合 预聚物 或者 包含 压花 及其 用途 | ||
在包含至少一种具有至少一个可聚合的C‑C双键的单体结构单元或寡聚体结构单元以及至少一种多官能的单体结构单元的预聚物组合物的情况下,所述多官能的单体结构单元包含选自以下组中的具有至少两个硫醇基的多官能的单体结构单元:3‑巯基丙酸酯、3‑巯基乙酸酯、2‑巯基乙酸酯及烷基硫醇;所述具有至少一个可聚合双键的单体结构单元或寡聚体结构单元选自以下组中:丙烯酸酯、丙烯酸甲酯、乙烯基醚、烯丙基醚、丙烯基醚、烯烃、二烯烃、不饱和酯、烯丙基三嗪、烯丙基异氰酸酯及N‑乙烯基酰胺;并且包含至少一种选自以下组中的表面活性抗粘添加剂:烷基‑(甲基)丙烯酸酯、聚硅氧烷(甲基)丙烯酸酯、全氟烷基‑(甲基)丙烯酸酯、全氟聚醚‑(甲基)丙烯酸酯、烷基‑乙烯基醚、聚硅氧烷‑乙烯基醚、全氟烷基‑乙烯基醚及全氟聚醚‑乙烯基醚,以及包含光敏引发剂;以及其用途。
技术领域
本发明涉及预聚物组合物,其包含至少一种具有至少一个可聚合双键的单体结构单元或寡聚体结构单元以及至少一种多官能的单体结构单元,本发明还涉及其用途。
背景技术
由于近年来纳米技术飞速蓬勃发展,纳米结构化的组件的生产在工业制造中变得明显更加重要,其中此类纳米结构化的组件通常由可光聚合的预聚物组合物制成。尤其是在安全技术、装饰领域、产品市场营销、各种不同材料的表面修饰以及其他领域中,越来越多地使用极精细的结构,以实现特定的额外的功能,例如表面的自清洁,或者还实现装饰性光学效果或抗反射等。为此使用通过纳米技术预加工的结构,其是由特定的预聚物组合物制成的。此类微米和纳米结构化的薄膜的一个仍然重要的应用目的是在于电子元件、光学元件、传感元件及磁性元件,如集成电路、显示器、微光学等,这是因为小的结构尺寸对于这些元件的功能性而言是决定性因素,因此在大面积印刷电子器件的领域,在薄膜基材上生产元件是极其费力的。因此对于工业薄膜生产而言,微米和纳米结构化技术,如辊对辊、辊对平板或平板对平板压印技术发挥重要作用,并且总是要求新的改进的可制模的薄膜或者可用于制备如此结构化的薄膜的组合物。
工业薄膜修饰包括由机械或装饰性表面特性的改善直至将光学、传感和电子功能性集成在材料薄膜中的一个非常大的范围。尤其是辊对辊(R2R)、辊对平板(R2P)和平板对平板(S2S)生产过程由于连续的生产方式及大的可实现的薄膜尺寸规格允许高的生产速度及高的通过量,由此可以降低成本并且提供更大的产品量。然而使用此类生产技术的一个决定性准则及同时限制性组件在于,产品通常具有亚微米或纳米范围的尺寸的结构,一方面是由于其单个组件的集成密度高,而且为了确保所用波长量级的结构的功能性并且总体上使表面增大。传统的大规模印刷方法(Massendruckverfahren)如凹版印刷、苯胺印刷、丝网印刷、胶版印刷等虽然允许每分钟几百米的极高通过量,但是通常无法提供所需的结构分辨率范围。唯一目前已知的能够在平行方法中产生具有纳米范围的最小尺寸的结构的技术是所谓的纳米压印平版印刷(Nanoimprintlithographie,NIL),其是高精度压花法并且还可以在相应的基材上形成极小的结构。
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