[发明专利]通过动态光散射装置确定样品的折射率和所述样品中颗粒的粒度有效
| 申请号: | 201580074042.2 | 申请日: | 2015-11-20 |
| 公开(公告)号: | CN107257919B | 公开(公告)日: | 2020-03-24 |
| 发明(设计)人: | 克里斯蒂安·莫伊齐 | 申请(专利权)人: | 安东帕有限责任公司 |
| 主分类号: | G01N15/02 | 分类号: | G01N15/02;G01N21/51 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 王晖;李洁 |
| 地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 通过 动态 散射 装置 确定 样品 折射率 颗粒 粒度 | ||
1.一种散射装置(10),特别是动态光散射装置(10),包括:
电磁辐射源(1),所述电磁辐射源被配置用于用一次电磁辐射(2)照射样品(5);
电磁辐射检测器(7),所述电磁辐射检测器被配置用于检测通过使所述一次电磁辐射(2)在所述样品(5)处散射所产生的二次电磁辐射(6);
折射率确定单元(20),所述折射率确定单元被配置用于确定指示所述样品(5)的折射率的信息;
粒度确定单元(22),所述粒度确定单元被配置用于通过分析所检测的二次电磁辐射(6)来确定指示所述样品(5)中的颗粒的粒度的信息,
其中,所述折射率确定单元(20)被配置用于基于对所检测的二次电磁辐射(6)的分析来确定指示所述样品(5)的折射率的所述信息,以及
其中,所述折射率确定单元(20)包括可移动光学元件(4),所述可移动光学元件在所述一次电磁辐射(2)和所述二次电磁辐射(6)中的至少一个传播所沿的光学路径中;并且所述折射率确定单元被配置用于通过分析在所述可移动光学元件(4)于所述光学路径中的不同位置处所检测的二次电磁辐射(6)的强度变化来确定指示所述样品(5)的折射率的信息。
2.根据权利要求1所述的装置(10),其中,所述折射率确定单元(20)被配置用于基于所检测的二次电磁辐射(6)的强度与光学元件(4)相对于一光学路径的可变位置之间的相关性来确定所述信息,所述光学路径为所述一次电磁辐射(2)和所述二次电磁辐射(6)中的至少一个传播所沿的光学路径,所述相关性取决于所述样品(5)的折射率的值。
3.根据权利要求1或2所述的装置(10),其中,所述折射率确定单元(20)被配置用于基于对以下的比较来确定指示所述样品(5)的折射率的所述信息:
在所述强度变化期间获得的强度曲线的特征,特别是最大强度值;以及
参考材料的预定数据,特别是指示所述参考材料的折射率值与参考强度曲线的被检测特征特别是最大强度值之间的相关性的预定数据。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的装置(10),其中,所述光学元件(4)选自由透镜、反射镜、板和楔形件组成的组。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的装置(10),其中,所述光学元件(4)位于:
所述电磁辐射源(1)和所述样品(5)之间;或
所述样品(5)和所述电磁辐射检测器(7)之间。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的装置(10),其中,所述光学元件(4)被安装成能够通过由以下组成的组中至少一种移动:使所述光学元件(4)沿着或平行于所述光学路径移位;使所述光学元件(4)垂直于所述光学路径移位;以及使所述光学元件(4)相对于所述光学路径倾斜。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的装置(10),包括调节单元(24),所述调节单元被配置用于移动所述光学元件(4),以便至少部分地补偿最大检测强度与实际检测强度之间的偏差。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的装置(10),其中,所述粒度确定单元(22)被配置用于在考虑所确定的指示所述折射率的信息的情况下确定指示粒度的所述信息。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的装置(10),其中,对于检测二次电磁辐射(6)以用于确定指示所述折射率的所述信息,所述电磁辐射检测器(7)被定位以检测沿着二次传播方向的所述二次电磁辐射(6),所述二次传播方向被定向用以检测垂直于所述一次电磁辐射(2)定向的射束分量。
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