[发明专利]生产挠性有机-无机层合物的方法有效
| 申请号： | 201580073853.0 | 申请日： | 2015-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN107208265B | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | M·阿尔夫;J·弗朗克;T·阿德尔曼;S·克洛茨 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫涂料有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;H01L51/52 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 王丹丹;刘金辉 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 生产 有机 无机 层合物 方法 | ||
1.生产层合物的方法，其包括：
(a) 通过原子层沉积方法沉积无机层，和
(b) 通过分子层沉积方法沉积含硒有机层，
其中硒醇用于在分子层沉积方法中沉积有机层，该硒醇含有一个或多个羟基。
2.根据权利要求1的方法，其中二硒醇用于在分子层沉积方法中沉积有机层。
3.根据权利要求1的方法，其中芳族硒醇用于在分子层沉积方法中沉积有机层。
4.根据权利要求2的方法，其中芳族硒醇用于在分子层沉积方法中沉积有机层。
5.根据权利要求1-4中任一项的方法，其中含Al化合物用于在原子层沉积方法中沉积无机层。
6.根据权利要求1-4中任一项的方法，其中无机层通过4-150次原子层沉积循环沉积。
7.根据权利要求5的方法，其中无机层通过4-150次原子层沉积循环沉积。
8.一种包含通过权利要求1-7中任一项的方法生产的层合物的阻障膜，所述层合物包含：
(a) 无机层和
(b) 含硒醇有机层，所述硒醇含有一个或多个羟基，
其中阻障膜进一步包含聚合物基底。
9.根据权利要求8的阻障膜，其中有机层含有氧化态-2、-1或0的硒。
10.根据权利要求8的阻障膜，其中无机层包含AlOx(OH)y，其中0≤x≤1.5；0≤y≤3且2x+y=3。
11.根据权利要求9的阻障膜，其中无机层包含AlOx(OH)y，其中0≤x≤1.5；0≤y≤3且2x+y=3。
12.根据权利要求8-11中任一项的阻障膜，其中无机层具有0.4-15nm的厚度。
13.根据权利要求8-11中任一项的阻障膜，其中阻障膜进一步包含平坦化层。
14.根据权利要求12的阻障膜，其中阻障膜进一步包含平坦化层。
15.根据权利要求8-14中任一项的阻障膜在封装或钝化中的用途。
16.根据权利要求8-14中任一项的阻障膜在囊封中的用途。
17.一种电子装置，其包含根据权利要求8-14中任一项的阻障膜。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
