[发明专利]具有含有开槽式螺旋波导的旋转微波等离子体天线的工件处理腔室

权利要求书

1.一种用于处理工件的反应器，所述反应器包含：

腔室以及在所述腔室内的工件支撑件表面；

旋转耦合件，所述旋转耦合件包含固定式台和旋转式台，所述旋转式台具有旋转轴；

微波源，所述微波源耦接至所述固定式台；

旋转致动器；

微波天线，所述微波天线耦接至所述旋转致动器与并覆盖所述腔室，所述微波天线包含：

底板和天花板；

第一螺旋壁，所述第一螺旋壁在所述底板与所述天花板之间延伸，且所述第一螺旋壁具有螺旋轴，所述螺旋轴对应于所述旋转轴，所述第一螺旋壁界定第一螺旋导管，所述第一螺旋导管具有第一导管端；

第一多个口，所述第一多个口被沿着所述第一螺旋导管的长度在所述底板中间隔放置；

轴向导管，所述轴向导管耦接至所述旋转式台；以及

分配器波导，所述分配器波导包含输入和第一输出，所述输入耦接至所述轴向导管，且所述第一输出耦接至所述第一导管端。

2.如权利要求1所述的反应器，其中所述微波天线进一步包含：

第二螺旋壁，所述第二螺旋壁在所述底板与所述天花板之间延伸并对齐所述螺旋轴，所述第二螺旋壁界定第二螺旋导管，所述第二螺旋导管具有第二导管端；

第二多个口，所述第二多个口被沿着所述第二螺旋导管的长度在所述底板中间隔放置；以及

其中所述分配器波导进一步包含第二输出，所述第二输出耦接至所述第二导管端。

3.如权利要求2所述的反应器，其中所述分配器波导包含：

波导腔室，所述波导腔室覆盖所述微波天线并具有相应的开口，所述开口对齐所述第一导管端和所述第二导管端的相应一个；以及

第一反射性表面对，所述第一反射性表面对经设置角度以使所述波导腔室中的辐射偏斜进入所述相应的开口中。

4.如权利要求3所述的反应器，其中所述微波天线进一步包含：

第二反射性表面对，所述第二反射性表面对经设置角度以使来自所述相应的开口的辐射偏斜进入所述第一导管端和所述第二导管端的相应一个。

5.如权利要求3所述的反应器，其中所述第一反射性表面对以相对于所述螺旋轴45度定向。

6.如权利要求4所述的反应器，其中所述第二反射性表面对以相对于所述螺旋轴45度定向。

7.如权利要求3所述的反应器，其中所述第一导管端和所述第二导管端位于所述微波天线的周围处，所述分配器波导跨越所述微波天线的直径。

8.如权利要求7所述的反应器，其中所述相应的开口被沿着所述周围彼此相距180度放置。

9.一种微波源，所述微波源包含：

底板和天花板；

第一螺旋壁，所述第一螺旋壁界定第一螺旋导管并在所述底板与所述天花板之间延伸，且所述第一螺旋导管具有螺旋轴和第一导管端；

第一多个口，所述第一多个口被沿着所述第一螺旋导管的长度在所述底板中间隔放置；

轴向导管；以及

分配器波导，所述分配器波导包含输入和第一输出，所述输入耦接至所述轴向导管，且所述第一输出耦接至所述第一导管端。

10.如权利要求9所述的微波源，所述微波源进一步包含：

旋转耦合件，所述旋转耦合件包含固定式台和旋转式台，所述旋转式台具有旋转轴，所述旋转轴与所述螺旋轴重合；

微波源，所述微波源耦接至所述固定式台，所述轴向导管耦接至所述旋转式台；以及

旋转致动器，所述旋转致动器耦接至所述旋转式台。