[发明专利]浸镀锅的上部浮渣去除装置

权利要求书

1.一种浸镀锅的上部浮渣去除装置，包括：

第一擦拭装置，其安装在所述浸镀锅上；

第二擦拭装置，其安装在所述浸镀锅上；以及

第三擦拭装置，其安装在所述浸镀锅上，其中

所述第一擦拭装置被配置成以所述浸镀锅的长度方向为基准在突出部与气刀之间在所述浸镀锅的宽度方向做直线往返运动，从而将位于所述突出部前的上部浮渣移送至所述浸镀锅的两侧，

所述第二擦拭装置被配置成以所述浸镀锅的长度方向为基准在所述气刀后以所述浸镀锅的宽度方向为基准在一侧枢转，从而将通过所述第一擦拭装置移送的上部浮渣移送至所述浸镀锅的后方侧壁附近，并且

所述第三擦拭装置被配置成以所述浸镀锅的长度方向为基准在所述气刀前以所述浸镀锅的宽度方向为基准在另一侧枢转，从而将位于所述气刀前和所述气刀侧的上部浮渣移送至所述浸镀锅的前方侧壁附近。

2.根据权利要求1所述的浸镀锅的上部浮渣去除装置，其中，所述第一擦拭装置包括磁轮。

3.根据权利要求2所述的浸镀锅的上部浮渣去除装置，其中，所述第一擦拭装置包括：主体，支撑所述磁轮以使其可以旋转；第一驱动部，与所述主体结合并使所述磁轮旋转；导轨，向所述浸镀锅的宽度方向配置，所述主体可移动地与其结合；第二驱动部，向所述主体提供驱动力；升降部，与所述主体结合并使所述主体升降。

4.根据权利要求1所述的浸镀锅的上部浮渣去除装置，其中，所述第二擦拭装置以经过所述浸镀锅的宽度方向中心的虚拟的基准线为基准，配置在某一侧，所述第三擦拭装置配置在所述基准线的另一侧。

5.根据权利要求4所述的浸镀锅的上部浮渣去除装置，其中，所述第二擦拭装置配置在所述浸镀锅的角落。

6.根据权利要求5所述的浸镀锅的上部浮渣去除装置，其中，所述第三擦拭装置配置在所述浸镀锅的角落。

7.根据权利要求1所述的浸镀锅的上部浮渣去除装置，其中，所述第二擦拭装置和所述第三擦拭装置包括磁轮。

8.根据权利要求7所述的浸镀锅的上部浮渣去除装置，其中，所述第二擦拭装置和所述第三擦拭装置包括：第一主体部，支撑所述磁轮以使其可以旋转；第一驱动部，与所述第一主体结合并使所述磁轮旋转；以及第二驱动部，与所述第一主体结合而使所述第一主体旋转，以使所述磁轮枢转。

9.根据权利要求8所述的浸镀锅的上部浮渣去除装置，其中，所述第二擦拭装置和所述第三擦拭装置还包括：第二主体，包括所述第二驱动部；以及升降部，使所述第二主体升降。

10.根据权利要求9所述的浸镀锅的上部浮渣去除装置，其中，所述磁轮的轴方向与所述第一主体的轴方向垂直。

11.根据权利要求10所述的浸镀锅的上部浮渣去除装置，其中，所述第一驱动部的旋转轴的轴方向与所述第二驱动部的旋转轴的轴方向垂直。

12.根据权利要求2所述的浸镀锅的上部浮渣去除装置，其中，所述磁轮包括轴和结合在所述轴的外周面的磁铁。

13.根据权利要求11所述的浸镀锅的上部浮渣去除装置，其中，包括覆盖所述磁轮的壳体。

14.根据权利要求13所述的浸镀锅的上部浮渣去除装置，其中，所述壳体包括：主体，其以围绕所述磁轮的框架形状形成，所述磁轮可旋转地与其结合，且与所述第一主体结合；上部盖，与所述主体的开放的上面结合；以及下部盖，与所述主体的开放的下面结合。

15.根据权利要求14所述的浸镀锅的上部浮渣去除装置，其中，所述下部盖包括与所述磁轮的表面相对应的圆筒面。