[发明专利]光学体、光学膜粘合体及光学体的制造方法

说明书

本发明提供一种不使用保护膜而能够保护光学膜的凹凸结构，能够使光学膜薄膜化，并且提高操作性，抑制粘接剂层与光学膜的折射率差所导致的缺陷的产生，并且能够将光学膜更牢固地粘贴于被粘物的，新型且经改良的光学体、光学膜粘合体及光学体的制造方法。根据本发明的一个观点，提供一种光学体，其具有：光学膜，其具备在一侧表面所形成的第一凹凸结构和在另一侧表面所形成的第二凹凸结构；以及主膜，其覆盖第一凹凸结构，其中，第一凹凸结构的凹凸的平均周期在可见光波长以下，主膜具备：第三凹凸结构，其形成于与第一凹凸结构相对的表面，并且，具有第一凹凸结构的反转形状。

技术领域

本发明涉及一种光学体、光学膜粘合体及光学体的制造方法。

背景技术

形成有凹凸的平均周期在可见光波长以下的凹凸结构的光学膜，对可见光波长范围的光具有优异的防反射效果。因此，具有凹凸结构的光学膜可用作例如防反射膜。这种凹凸结构也被称为蛾眼结构。例如在专利文献1～2中公开了形成有凹凸结构的光学膜。

作为凹凸结构的形成方法，例如在专利文献1中公开了光纳米压印法。在光纳米压印法中，要准备用于在表面形成凹凸结构的原盘。并且，通过在基材上涂布未固化的光固化树脂，在基材上形成未固化树脂层。然后，向未固化树脂层转印原盘的凹凸结构，使未固化树脂层固化。由此，在基材上形成凹凸结构(该凹凸结构具有原盘凹凸结构的反转形状)。

另外，例如如专利文献2中公开那样，在防反射膜的凹凸结构上，有时粘贴保护膜来用于在防反射膜的保管时、搬运时、使用时等保护凹凸结构。保护膜通过粘接剂被粘贴于凹凸结构。因此，在将保护膜从凹凸结构剥离时，粘接剂有时会残留于凹凸结构上。若在凹凸结构上残留有粘接剂，则该粘接剂会导致防反射膜性能劣化。作为解决该问题的方法，考虑降低粘接剂的粘合性，但这种方法会使保护膜容易从凹凸结构脱离。即，有可能使由保护膜实现的对凹凸结构的保护变得不充分。对此，在专利文献2中，提出使用一种应用了特定粘接剂的保护膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2011-053496号公报

专利文献2:日本特开2011-088356号公报

发明内容

本发明要解决的问题

然而，为了确保防反射膜的操作性，需要使防反射膜具有一定程度的厚度。但是，若防反射膜过厚，则存在防反射膜的粘合体厚型化这一问题。另外，在向表面具有大型凹凸的被粘物粘贴防反射膜时，防反射膜有时无法充分地跟随被粘物表面的凹凸。

例如，如图11所示，在使用厚度25μm的粘接剂层53，向具有高度s为50μm的框体51的触摸面板50粘贴厚度50μm的防反射膜52的情况下，存在防反射膜52无法跟随框体51的高度s的情况。此时，在贴附防反射膜52后，框体51的周围形成空隙54，因此会影响触摸面板50的外观。

另外，在使用粘接剂将防反射膜粘贴于被粘物时，存在防反射膜的折射率与粘接剂层的折射率不一致的情况。此时，有可能会使防反射膜的反射率不良(即，反射率提高)。另外，有可能会发生如纹波产生、干涉图案生成等外观缺陷。

作为解决上述问题的方法，也考虑在被粘物的表面直接形成凹凸结构。对于该方法，例如在被粘物的表面平坦，并且在被粘物的周围不存在框体和配线等情况，或者被粘物由柔软的部件形成的情况下，能够期待具有一定程度的效果。但是，在上述以外的情况(例如，被粘物的表面弯曲的情况、在被粘物的周围存在框体和配线等情况等)，会存在使凹凸结构的质量变得不稳定的问题。另外，在被粘物的表面直接形成凹凸结构的情况下，可能会妨碍之后的工序。因此，该方法无法从根本上解决上述问题。