[发明专利]立方晶氮化硼烧结体和被覆立方晶氮化硼烧结体

权利要求书

1.一种立方晶氮化硼烧结体，其包含40体积％～85体积％的立方晶氮化硼、15体积％～60体积％的结合相和不可避免的杂质，其中，

所述结合相含有：包含Al元素和选自N、O和B中的至少1种元素的Al化合物；和包含Zr元素和选自C、N、O和B中的至少1种元素的Zr化合物，

所述Zr化合物含有ZrO、或者ZrO和ZrO₂，

在将X射线衍射中的所述ZrO的(111)面的峰强度设定为I₁、正方晶ZrO₂的(101)面的峰强度设定为I_2t、立方晶ZrO₂的(111)面的峰强度设定为I_2c时，I₁的强度与I₁、I_2t和I_2c的总强度之比[I₁/(I₁+I_2t+I_2c)]为0.6～1.0，

所述Al化合物的平均粒径为80nm～300nm。

2.根据权利要求1所述的立方晶氮化硼烧结体，其中，所述Al化合物含有Al₂O₃，

所述Al₂O₃的晶体结构是α-Al₂O₃，

在将X射线衍射中的所述α-Al₂O₃的(110)面的峰强度设定为I₃时，I₁的强度与I₃的强度之比[I₁/I₃]为0.3～0.8。

3.根据权利要求1或2所述的立方晶氮化硼烧结体，其中，所述Zr化合物相对于所述立方晶氮化硼烧结体整体为1体积％～10体积％。

4.根据权利要求1或2所述的立方晶氮化硼烧结体，其中，所述立方晶氮化硼的平均粒径为0.2μm～2.0μm。

5.根据权利要求3所述的立方晶氮化硼烧结体，其中，所述立方晶氮化硼的平均粒径为0.2μm～2.0μm。

6.一种被覆立方晶氮化硼烧结体，其是在权利要求1～5中任一项所述的立方晶氮化硼烧结体的表面形成了被覆膜而得到的。

7.根据权利要求6所述的被覆立方晶氮化硼烧结体，其中，所述被覆膜包含：选自Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al和Si中的至少1种以上的元素；以及选自C、N、O和B中的至少1种以上的元素。

8.根据权利要求6或7所述的被覆立方晶氮化硼烧结体，其中，所述被覆膜是单层膜或2层以上的层叠膜。

9.根据权利要求6或7所述的被覆立方晶氮化硼烧结体，其中，所述被覆膜整体的总膜厚以平均膜厚计为0.5μm～20μm。

10.根据权利要求8所述的被覆立方晶氮化硼烧结体，其中，所述被覆膜整体的总膜厚以平均膜厚计为0.5μm～20μm。