[发明专利]在具有垂直射束角装置的离子注入系统中测量垂直射束轮廓的方法

权利要求书

1.一种用于离子注入系统的测量系统，该测量系统包括：

扫描臂，其被配置成绕轴线旋转；

工件支撑件，其以线性滑动的方式与所述扫描臂接合，其中，该工件支撑件被配置成使工件沿注入平面平移通过离子束的路径；

第一测量构件，其包括沿所述离子束的路径定位于所述扫描臂的下游的第一法拉第杯，其中，所述第一法拉第杯被配置成提供与入射于该第一法拉第杯的离子束中的离子辐射相关联的第一信号；

第二测量构件，其包括在操作上耦合至所述扫描臂的第二法拉第杯和遮罩，其中，所述第二法拉第杯被配置成在所述扫描臂绕轴线旋转的同时提供与入射于该第二法拉第杯的离子束中的离子辐射相关联的第二信号，并且，所述遮罩被定位于所述第二法拉第杯的上游，其中，所述遮罩大体上相对于所述第二法拉第杯固定并具有限定于其中的多个狭缝，并且，所述遮罩被配置成基于所述遮罩与所述离子束之间的相对角取向允许所述离子束中不同数量的离子辐射从中穿过抵达所述第二法拉第杯，其中，所述遮罩进一步包括阻挡板，该阻挡板被定位于所述遮罩的一个或多个外侧位置处，并且，所述阻挡板被配置成基于所述扫描臂绕轴线旋转来选择性阻挡入射于所述第一法拉第杯的离子束中的离子辐射；以及

控制器，其被配置成确定相对于所述注入平面的所述离子束的角度和所述离子束的垂直尺寸，其中，该确定至少部分基于以下一项或多项：第一信号、第二信号以及在所述第二法拉第杯绕轴线旋转时所述遮罩与所述离子束之间的相对取向。

2.根据权利要求1所述的测量系统，其进一步包括角度量测设备，其被配置成确定所述扫描臂绕轴线的角取向，并且，所述控制器被进一步配置成基于所述扫描臂绕轴线的角取向来确定相对于所述注入平面的所述离子束的角度和所述离子束的垂直尺寸。

3.根据权利要求2所述的测量系统，其中，所述角度量测设备包括编码器，其在操作上耦合至所述扫描臂。

4.根据权利要求1所述的测量系统，其中，所述控制器被配置成基于所述第二信号和所述扫描臂绕轴线的角取向来确定所述离子束的垂直尺寸。

5.根据权利要求4所述的测量系统，其中，所述阻挡板被定位于所述遮罩的相反端，其中，所述阻挡板被配置成完全穿过所述离子束，在其中选择性阻挡入射于所述第一法拉第杯的离子束中的离子辐射。

6.根据权利要求4所述的测量系统，其中，所述阻挡板被定位于所述遮罩的第一端部处。

7.根据权利要求1所述的测量系统，其中，所述阻挡板相对于所述遮罩固定并被定位于与所述轴线相隔预定距离的位置。

8.根据权利要求1所述的测量系统，其中，所述阻挡板被整合至所述遮罩。

9.根据权利要求1所述的测量系统，其中，所述遮罩的高度大于所述离子束的高度。

10.根据权利要求1所述的测量系统，其中，所述遮罩和所述第二法拉第杯相对于所述扫描臂固定。

11.根据权利要求1所述的测量系统，其中，所述第一法拉第杯被牢固耦合至终端站的构件，并且，所述轴线相对于所述终端站固定。

12.根据权利要求1所述的测量系统，其中，所述离子束包括水平扫描的离子束。

13.根据权利要求1所述的测量系统，其中，所述第二测量构件以相对于所述工件支撑件已知的关系来取向。

14.根据权利要求1所述的测量系统，其中，所述第二测量构件阻挡来自所述第一测量构件的离子束的一部分，并且所述控制器被进一步配置成经由所述第一信号和第二信号确定所述离子束的垂直轮廓。