[发明专利]IR反射膜在审

专利信息
申请号: 201580070189.4 申请日: 2015-12-18
公开(公告)号: CN107111020A 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: M·斯塔尔德;B·加里奈特;F·鲁道夫;G·巴塞;R·费里尼;P·比雅尔;A·冯穆勒嫩;A·哈夫纳 申请(专利权)人: 巴斯夫欧洲公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;G02B5/20
代理公司: 北京市中咨律师事务所11247 代理人: 王丹丹,刘金辉
地址: 德国路*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: ir 反射
【权利要求书】:

1.半透明或透明膜或片,其包含:覆盖有介电高折射率材料层(4)的基底(1),所述介电高折射率材料层(4)包含嵌入所述材料中的薄金属层(3),和覆盖所述介电高折射率材料层(4)的另一半透明或透明材料层(5),其特征在于嵌入金属层(3)周期性地以50-800nm的周期中断以使得金属覆盖至少70%的基底面积。

2.根据权利要求1的膜或片,其中高折射率材料的折射率为大于1.9,优选为2.0-2.8。

3.根据权利要求1或2的膜或片,其中在至少一个维度内金属层(3)中的中断周期为100-500nm,和/或嵌入金属层覆盖70-99%,尤其是80-95%的基底面积。

4.根据权利要求1-3中任一项的膜或片,其中垂直于基底平面的金属层(3)厚度为4-20nm,尤其是5-15nm,和/或介电高折射率材料层(4)的厚度在金属层的每个面上为20-50nm,尤其是30-40nm。

5.根据权利要求1-4中任一项的膜或片,其中金属层基本由银、铝、铜、金,尤其是银组成。

6.根据权利要求1-5中任一项的膜或片,其中高折射率材料选自金属硫属化物和金属氮化物,优选金属Al、In、Ga、Si、Sn、Ce、Hf、Nb、Ta、Zn、Ti、Zr的硫属化物和氮化物,以及这些金属的二元碱性硫属化物和氮化物,尤其是氧化物、醇盐、氮化物、硫化物,例如硫化锌。

7.根据权利要求1-6中任一项的膜或片,其还包含在另一层(5)上的抗反射涂层(2)。

8.根据权利要求1-7中任一项的膜或片,其中相邻层(1)、(3)、(4)、(5)和任选(2)各自相互直接光学接触。

9.窗、玻璃幕墙元件或太阳能电池板,其包含根据权利要求1-8中任一项的膜或片。

10.根据权利要求9的太阳能电池板,其包含作为包含在所述太阳能电池板中的光伏电池的覆盖膜布置的根据权利要求1-8中任一项的膜或片。

11.制造根据权利要求1-8中任一项的半透明或透明膜或片的方法,所述方法包括:

n)构造合适膜或片基底(1)的至少一个表面以得到具有50-800nm的周期以及合适宽度和深度,通常周期的约4至约10%的宽度和通常5-100nm的深度的槽或沟,

o)将高折射率材料层沉积于如此得到的至少一个结构化表面上,

p)通过热蒸发或物理气相沉积,任选在斜角下将薄金属层沉积于步骤(b)中所得表面上,如此得到至少部分地位于步骤(a)中引入的槽或沟处的金属层中的中断;

q)将另一高折射率材料层沉积于步骤(c)的所述中断金属层上;

r)将步骤(d)中所得高折射率材料层用一个或多个半透明或透明介电材料层覆盖;和任选

s)将抗反射层沉积于步骤(e)中所得表面上。

12.制造根据权利要求1-8中任一项的半透明或透明膜或片的方法,所述方法包括:

t)提供合适的膜或片基底(1);

u)将高折射率材料层沉积于所述基底的至少一个表面上;

v)将薄金属层沉积于步骤(h)中所得表面上;

w)通过例如等离子蚀刻、浮雕、切割或冲孔以50-800nm的周期除去1-30%的金属层面积,同时保持70-99%的金属层面积基本不变而将中断引入金属层中;

x)将另一高折射率材料层沉积于步骤(j)的所述中断金属层上;

y)将步骤(k)中所得高折射率材料层用一个或多个半透明或透明介电材料层覆盖;和任选

z)将抗反射层沉积于步骤(l)中所得表面上。

13.根据权利要求1-8中任一项的膜或片,其中基底(1)和/或另一层(5)为聚合物材料或玻璃,例如选自热塑性聚合物和UV固化聚合物,例如丙烯酸系聚合物、聚碳酸酯、聚酯、聚丁酸乙烯酯、聚烯烃、聚醚酰亚胺、聚醚酮、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、聚苯乙烯、聚甲醛、聚氯乙烯、低折射率复合材料或混杂聚合物、可辐射固化组合物,或者其两种或更多种。

14.根据权利要求9的窗格、玻璃幕墙元件或太阳能电池板,其中基底包含平坦或弯曲聚合物膜或片,或者玻璃片,或者聚合物膜或片和玻璃片。

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