[发明专利]琢面EUV光学器件

权利要求书

1.一种反射式EUV光学器件，包括：

第一琢面，包括所述反射式EUV光学器件的反射表面的第一部分；以及

第二琢面，包括所述反射式EUV光学器件的反射表面的第二部分，所述第一琢面沿平行于所述反射式EUV光学器件的光轴的方向与所述第二琢面物理地分隔，并且所述第一琢面沿基本上与所述反射表面相切的方向与所述第二琢面叠置，以在所述第一琢面和所述第二琢面之间形成间隙。

2.根据权利要求1所述的反射式EUV光学器件，其中，所述第一琢面沿平行于所述反射式EUV光学器件的光轴并且与其相同的方向与所述第二琢面分隔。

3.根据权利要求1所述的反射式EUV光学器件，其中，所述第一琢面沿平行于所述反射式EUV光学器件的光轴并且与其相反的方向与所述第二琢面分隔。

4.根据权利要求1所述的反射式EUV光学器件，所述反射式EUV光学器件基本上围绕中心光轴旋转对称，其中所述第一琢面和所述第二琢面基本上是环形。

5.根据权利要求1所述的反射式EUV光学器件，进一步包括与所述间隙流体连通的增压室。

6.一种反射式EUV光学器件，具有反射表面，所述反射表面由多个琢面构成，其中相邻琢面由相应间隙物理地分隔，其中，所述多个琢面中的至少一个琢面沿平行于所述EUV光学器件的光轴的方向与相邻琢面物理地分隔，并且沿基本上与其中所述琢面与相邻琢面叠置所在的反射表面相切的方向而与所述相邻琢面叠置。

7.根据权利要求6所述的反射式EUV光学器件，所述反射表面基本上围绕中心光轴旋转对称，其中所述琢面基本上是环形的。

8.根据权利要求6所述的反射式EUV光学器件，其中，所述多个琢面一起构成了基本上整个所述反射表面。

9.根据权利要求6所述的反射式EUV光学器件，进一步包括与所述间隙流体连通的增压室。

10.一种EUV光源，包括：

反射式EUV光学器件，包括第一琢面以及第二琢面，所述第一琢面包括所述反射式EUV光学器件的反射表面的第一部分，所述第二琢面包括所述反射式EUV光学器件的反射表面的第二部分，所述第一琢面由间隙与所述第二琢面物理地分隔；以及

气体源，与所述间隙流体连通。

11.根据权利要求10所述的EUV光源，其中，所述第一琢面沿平行于所述反射式EUV光源的光轴的方向与所述第二琢面分隔，并且所述第一琢面沿基本上与其中所述第一琢面与所述第二琢面叠置所在的反射表面相切的方向而与所述第二琢面叠置。

12.根据权利要求10所述的EUV光源，其中，所述反射式EUV光学器件基本上围绕中心光轴旋转对称，以及其中所述第一琢面和所述第二琢面基本上是环形的。

13.根据权利要求10所述的EUV光源，进一步包括与所述间隙流体连通的增压室。

14.一种EUV光源，包括：

腔室；

在所述腔室中的反射式EUV光学器件，所述反射式EUV光学器件基本上围绕中心光轴旋转对称并且包括第一环形琢面和第二环形琢面，所述第一环形琢面包括所述反射式EUV光学器件的反射表面的第一部分，所述第二环形琢面包括所述反射式EUV光学器件的反射表面的第二部分，所述第一环形琢面由环形入口与所述第二环形琢面物理地分隔，所述反射式EUV光学器件进一步包括与所述环形入口流体连通的增压室；以及

气体供应源，与所述增压室流体连通并且处于比所述腔室中的压力更高的压力。