[发明专利]液体喷射头有效

专利信息
申请号: 201580067687.3 申请日: 2015-12-07
公开(公告)号: CN107107615B 公开(公告)日: 2018-10-09
发明(设计)人: 福田俊也 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B41J2/14 分类号: B41J2/14;B41J2/15
代理公司: 北京金信知识产权代理有限公司 11225 代理人: 黄威;夏东栋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 喷嘴 压力室 压力室基板 喷嘴基板 液体喷射头 流路基板 连通孔 预定位置处 对齐 正交的 连通 喷射
【权利要求书】:

1.一种液体喷射头,其包括:

压力室基板,在所述压力室基板上,沿第一方向形成有作为压力室的多个空间;

喷嘴基板,在所述喷嘴基板上,通过对应于所述压力室而形成有喷射所述压力室中的液体的多个喷嘴;以及

流路基板,在所述流路基板上,与所述喷嘴和对应于所述喷嘴的所述压力室连通的多个连通孔形成在所述压力室基板与所述喷嘴基板之间,其中各个压力室的在与所述第一方向正交的第二方向上的两端通过在所述第二方向上对齐到预定位置处而形成,其中在所述第一方向上彼此相邻的所述喷嘴形成为使得它们在所述第二方向上的位置彼此不同,并且其中在所述第一方向上彼此相邻的所述连通孔的至少一部分通过对应于所述喷嘴而形成为使得在所述第二方向上的位置不同,

其中所述连通孔包括形成在所述压力室侧的第一空间和形成在所述喷嘴侧的第二空间,其中各个第一空间的在所述第二方向上的两端通过在所述第二方向上对齐到预定位置处而形成,并且其中在所述第一方向上彼此相邻的所述第二空间形成为使得所述第二方向上的位置彼此不同。

2.根据权利要求1所述的液体喷射头,其中液体从供给口供给到所述压力室,所述供给口形成在所述流路基板上。

3.根据权利要求1所述的液体喷射头,其中所述第一空间的在所述第二方向上的一侧的端部形成在与所述压力室的同一侧的端部相同的位置处,或者形成在从所述压力室的同一侧的所述端部更靠所述压力室的外侧的位置处。

4.根据权利要求1或3所述的液体喷射头,其中所述第二空间包括形成在所述压力室侧的第一小空间和形成在所述喷嘴侧的第二小空间,其中所述第一小空间的在所述第一方向上的尺寸小于所述压力室的在所述第一方向上的尺寸,并且其中所述第二小空间的在所述第一方向上的尺寸大于所述第一小空间的在所述第一方向上的尺寸。

5.根据权利要求4所述的液体喷射头,其中所述第二小空间的在与所述喷嘴基板正交的方向上的尺寸小于所述第一小空间的在与所述喷嘴基板正交的所述方向上的尺寸。

6.根据权利要求1或3所述的液体喷射头,其中在所述喷嘴基板的与所述第二空间对应的区域中形成有与所述第二空间连通的凹空间,并且所述喷嘴在所述凹空间内开口,并且其中所述凹空间的在所述第一方向上的尺寸大于所述第二空间的在所述第一方向上的尺寸。

7.根据权利要求1或3所述的液体喷射头,其中所述第二空间的在所述第二方向上的两侧壁在与所述喷嘴基板正交的方向上延伸,并且其中所述喷嘴通过相对于所述第二空间向所述第二方向上的在所述第一方向上彼此相邻的所述喷嘴侧的相反侧的侧壁侧偏移而排布。

8.根据权利要求4所述的液体喷射头,其中所述第二空间的在所述第二方向上的两侧壁在与所述喷嘴基板正交的方向上延伸,并且其中所述喷嘴通过相对于所述第二空间向所述第二方向上的在所述第一方向上彼此相邻的所述喷嘴侧的相反侧的侧壁侧偏移而排布。

9.根据权利要求5所述的液体喷射头,其中所述第二空间的在所述第二方向上的两侧壁在与所述喷嘴基板正交的方向上延伸,并且其中所述喷嘴通过相对于所述第二空间向所述第二方向上的在所述第一方向上彼此相邻的所述喷嘴侧的相反侧的侧壁侧偏移而排布。

10.根据权利要求6所述的液体喷射头,其中所述第二空间的在所述第二方向上的两侧壁在与所述喷嘴基板正交的方向上延伸,并且其中所述喷嘴通过相对于所述第二空间向所述第二方向上的在所述第一方向上彼此相邻的所述喷嘴侧的相反侧的侧壁侧偏移而排布。

11.根据权利要求1至3中的任一项所述的液体喷射头,其中所述流路基板是硅基板,并且所述连通孔利用蚀刻而形成在所述流路基板上。

12.根据权利要求4所述的液体喷射头,其中所述流路基板是硅基板,并且所述连通孔利用蚀刻而形成在所述流路基板上。

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