[发明专利]编码器、位置测量系统和光刻设备

权利要求书

1.一种编码器，包括：

光学部件；

具有接收表面、第一介质和第二介质的包围装置，

其中接收表面被布置为从周围环境接收第一辐射束和第二辐射束，

其中光学部件被布置为组合第一辐射束和第二辐射束，

其中包围装置被布置为沿第一路径传播第一辐射束并且沿第二路径传播第二辐射束，

其中第一路径和第二路径从接收表面到光学部件，

其中包围装置被布置为使第一路径和第二路径与周围环境隔离，

其中第一路径至少部分地穿过第一介质，

其中第二路径至少部分地穿过第二介质，

其中第一路径穿过第二介质的路径长度与第二路径穿过第二介质的路径长度不同，以使第一辐射束的总光学路径长度和第二辐射束的总光学路径长度彼此相等。

2.根据权利要求1所述的编码器，其中第一介质的折射率小于第二介质的折射率。

3.根据权利要求2所述的编码器，其中第一路径具有第一路径长度，其中第二路径具有第二路径长度，其中第一路径长度大于第二路径长度，其中第一路径穿过第二介质的路径长度小于第二路径穿过第二介质的路径长度。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的编码器，其中包围装置被布置成包围被布置为具有气体的空间，其中所述气体形成第一介质。

5.根据权利要求4所述的编码器，其中包围装置包括连接所述空间与周围环境的导管，其中所述导管具有用于限制空间和周围环境之间的气体的流动的限制部。

6.根据权利要求5所述的编码器，其中所述限制部包括多孔材料。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的编码器，其中第一介质和第二介质中的至少一个包括固体。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的编码器，其中所述包围装置包括导热装置，其中所述导热装置至少部分地包围第一路径和第二路径。

9.根据权利要求1-3中任一项所述的编码器，其中光学部件包括用于衍射第一辐射束和第二辐射束中的至少一个的光栅。

10.根据权利要求1-3中任一项所述的编码器，其中包围装置被布置为使第一路径和第二路径与周围环境的折射率的改变隔离。

11.一种位置测量系统，包括根据权利要求1-10中任一项所述的编码器和光栅表面，其中所述光栅表面被布置为衍射辐射束以产生第一辐射束和第二辐射束。

12.根据权利要求11所述的位置测量系统，其中接收表面被布置为以第一角度接收第一辐射束，其中接收表面被布置为以第二角度接收第二辐射束，其中第一角度与第二角度不同。

13.根据权利要求11或12所述的位置测量系统，其中光学部件包括反射元件，所述反射元件被布置为将第一辐射束和第二辐射束反射回光栅表面，其中所述光栅表面被布置为将由反射元件反射的第一辐射束和第二辐射束衍射为单一的辐射束。

14.一种光刻设备，包括根据权利要求11-13中任一项所述的位置测量系统。

15.根据权利要求14所述的光刻设备，包括：

投影系统，所述投影系统将图案化的辐射束投影到衬底上；

第一台系统，所述第一台系统用于保持被布置以在图案化的辐射束中产生图案的图案形成装置；

第二台系统，所述第二台系统用于保持衬底；

控制系统，所述控制系统控制第一台系统和第二台系统中的至少一个的位置，

其中位置测量系统被布置为给控制系统提供表示第一台系统和第二台系统中的至少一个的位置的信号。