[发明专利]具有捆扎式触点的FinFET SRAM有效
申请号: | 201580065137.8 | 申请日: | 2015-11-11 |
公开(公告)号: | CN107004680B | 公开(公告)日: | 2021-03-30 |
发明(设计)人: | H·杨;N·N·莫江德;S·S·宋 | 申请(专利权)人: | 高通股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L27/11;H01L29/417 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 周敏;陈炜 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 捆扎 触点 finfet sram | ||
1.一种用于半导体器件的装置,包括:
第一晶体管的第一鳍;
第二晶体管的第二鳍;
耦合至所述第一鳍的第一触点;
耦合至所述第二鳍的第二触点;以及
耦合至所述第一触点并耦合至所述第二触点的捆扎式触点,其中所述捆扎式触点位于层间电介质中的沟槽中,并且其中所述捆扎式触点中与所述第一触点和所述第二触点接触的第一表面是平坦的表面。
2.如权利要求1所述的装置,其中所述第一晶体管和所述第二晶体管是使用小于16纳米(nm)的半导体制造工艺来制造的。
3.如权利要求2所述的装置,其中所述半导体制造工艺是10nm工艺。
4.如权利要求2所述的装置,其中所述半导体制造工艺是7nm工艺。
5.如权利要求1所述的装置,其中所述第一晶体管和所述第二晶体管被包括在逻辑电路中。
6.如权利要求5所述的装置,其中所述逻辑电路包括静态随机存取存储器(SRAM)位单元。
7.如权利要求1所述的装置,其中所述第一鳍和所述第二鳍包括硅。
8.如权利要求1所述的装置,其中所述第一触点、所述第二触点、以及所述捆扎式触点包括钨、铜、硅化物、或任何其他金属。
9.如权利要求1所述的装置,其中所述第一晶体管和所述第二晶体管被集成到至少一个半导体器件中。
10.如权利要求1所述的装置,进一步包括其中集成了所述第一晶体管和所述第二晶体管的设备,所述设备选自包括以下各项的组:娱乐单元、通信设备、位置固定数据单元、以及计算机。
11.如权利要求1所述的装置,进一步包括其中集成了所述第一晶体管和所述第二晶体管的设备,所述设备选自包括以下各项的组:移动电话、个人数字助理(PDA)、平板设备、音乐播放器、视频播放器、以及导航设备。
12.一种用于在使用小于16纳米(nm)的半导体制造工艺制造的半导体器件中形成触点的方法,所述方法包括:
图案化第一光阻材料以将第一图案施加到硬掩模,所述第一图案被设计成暴露第一晶体管的第一鳍;
图案化第二光阻材料以将第二图案施加到所述硬掩模,所述第二图案被设计成暴露第二晶体管的第二鳍;
根据所述第一图案将第一沟槽蚀刻穿过层间电介质以暴露所述第一鳍;
根据所述第二图案将第二沟槽蚀刻穿过所述层间电介质以暴露所述第二鳍;
将金属沉积到所述第一沟槽中以形成第一触点;
将金属沉积到所述第二沟槽中以形成第二触点;以及
形成耦合至所述第一触点并耦合至所述第二触点的捆扎式触点,其中形成所述捆扎式触点包括:
图案化掩模以将第三沟槽蚀刻穿过所述层间电介质至所述第一触点并至所述第二触点;以及
将金属沉积到所述第三沟槽中以形成所述捆扎式触点,其中所述捆扎式触点中与所述第一触点和所述第二触点接触的第一表面是平坦的表面。
13.如权利要求12所述的方法,其中所述半导体制造工艺是10nm工艺。
14.如权利要求12所述的方法,其中所述半导体制造工艺是7nm工艺。
15.如权利要求12所述的方法,进一步包括,在形成所述捆扎式触点之前执行平坦化工艺以平滑所述第一触点和所述第二触点。
16.如权利要求12所述的方法,其中所述第一晶体管和所述第二晶体管被包括在逻辑电路中。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于高通股份有限公司,未经高通股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201580065137.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的