[发明专利]酚醛清漆型酚醛树脂、其制造方法、感光性组合物、抗蚀材料、及涂膜

说明书

提供耐热性优异、且对g射线、h射线及i射线的曝光波长的吸光度低、高灵敏度的感光性组合物、抗蚀材料、其涂膜、及适合于这些用途的酚醛清漆型酚醛树脂及其制造方法。具体而言，提供一种酚醛清漆型酚醛树脂，其特征在于，其是使酚系三核体化合物(A)与甲醛在酸催化剂下进行反应而得到的，所述酚系三核体化合物(A)包含通过二烷基取代苯酚与含羟基芳香族醛的缩合反应得到的酚系三核体化合物(A1)、以及通过在2,3位、2,5位、3,4位、或3,5位的位置具有烷基的二烷基取代苯酚与不具有羟基的芳香族醛的缩合反应得到的酚系三核体化合物(A2)，并且前述酚系三核体化合物(A1)与前述酚系三核体化合物(A2)的摩尔比为20：80～90：10。

技术领域

本发明涉及耐热性优异、且对g射线、h射线及i射线的曝光波长的吸光度低、在增厚抗蚀涂膜的膜厚时也具有充分灵敏度的感光性组合物、抗蚀材料、其涂膜、及适合于这些用途的酚醛清漆型酚醛树脂。

背景技术

作为IC、LSI等半导体制造、LCD等显示装置的制造、印刷原版的制造等中使用的抗蚀剂，已知有使用了碱溶性树脂及1,2-二叠氮基萘醌化合物等光敏剂的正型光致抗蚀剂。作为前述碱溶性树脂，提出了使用由间甲酚酚醛清漆树脂及对甲酚酚醛清漆树脂组成的混合物作为碱溶性树脂的正型光致抗蚀剂组合物(例如，参照专利文献1。)。

专利文献1记载的正型光致抗蚀剂组合物是为了提高灵敏度等显影性而开发的。但是，近年来，随着半导体的高集成化高涨、图案进一步细线化的倾向，不断要求更优异的灵敏度，专利文献1记载的正型光致抗蚀剂组合物存在得不到充分应对细线化的灵敏度的问题。进而，在半导体等的制造工序中实施各种热处理，因此正型光致抗蚀剂组合物的涂膜也要求高耐热性，但专利文献1记载的正型光致抗蚀剂组合物存在耐热性不充分的问题。

另外，作为具有优异灵敏度且具有高耐热性的树脂，提出了在使间甲酚、对甲酚、或2,3-二甲酚等酚类与芳香族醛类反应后，向所得到的反应物中添加醛类(B)并在酸催化剂下反应而得到的光致抗蚀剂用酚醛树脂(例如，参照专利文献2。)。该光致抗蚀剂用酚醛树脂与现有树脂相比，提高了灵敏度，但无法充分应对近年的高耐热性的要求水平。

另一方面，作为碱溶性树脂的酚醛清漆树脂的感光度能够提高碱溶性来升高，但提高碱溶性时，存在耐热性降低的倾向，另外，提高耐热性时，存在感光度降低的问题。如此，对于酚醛清漆树脂而言，难以高水平兼顾灵敏度和耐热性。作为灵敏度与耐热性两者均得以提高的树脂，提出了以将二甲酚与含酚性羟基芳香族醛缩合而得到的酚系三核体化合物作为原料的光致抗蚀剂用的酚醛清漆型酚醛树脂(例如，参照专利文献3及4。)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平2-55359号公报

专利文献2：日本特开平9-90626号公报

专利文献3：日本特许第5152447号公报

专利文献4：日本特许第5035492号公报

发明内容

发明要解决的问题

专利文献3或4记载的酚醛清漆型酚醛树脂与以往相比以高水平兼具灵敏度和耐热性两者，但对光刻的曝光时使用的i射线(365nm)具有吸收。因此，该酚醛清漆型酚醛树脂尤其在增厚抗蚀涂膜的膜厚时存在灵敏度降低的问题。

因此，本发明要解决的课题在于提供耐热性优异、且对g射线、h射线及i射线的曝光波长的吸光度低、在增厚抗蚀膜的膜厚时也具有充分灵敏度的感光性组合物、抗蚀材料、其涂膜、及适合于这些用途的酚醛清漆型酚醛树脂及其制造方法。

用于解决问题的方案