[发明专利]用于电子器件中的杂环化合物

权利要求书

1.一种电子器件，其包含至少一种式(Ic)的化合物

其中所使用的符号如下：

L¹是具有6至20个碳原子的芳族环系或具有3至20个碳原子的杂芳族环系，所述环系中的每个可被一个或多个R¹基团取代；

Ar¹、Ar²、Ar³是具有6至40个碳原子的芳基基团或具有3至40个碳原子的杂芳基基团，所述基团中的每个可被一个或多个R¹基团取代；

R¹在每次出现时是相同或不同的并且是H，D，F，Cl，Br，I，B(OR²)₂,CHO，C(＝O)R²，CR²＝C(R²)₂，CN，C(＝O)OR²，C(＝O)N(R²)₂，Si(R²)₃，N(R²)₂，NO₂，P(＝O)(R²)₂，OSO₂R²，OR²，S(＝O)R²，S(＝O)₂R²，具有1至40个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团或者具有3至40个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团，所述基团中的每个可被一个或多个R²基团取代，其中一个或多个不相邻的CH₂基团可被-R²C＝CR²-、-C≡C-、Si(R²)₂、C＝O、C＝S、C＝NR²、-C(＝O)O-、-C(＝O)NR²-、NR²、P(＝O)(R²)、-O-、-S-、SO或SO₂代替，并且其中一个或多个氢原子可被D、F、Cl、Br、I、CN或NO₂代替，或者具有5至40个芳族环原子并且在每种情况下可被一个或多个R²基团取代的芳族或杂芳族环系，或者具有5至40个芳族环原子并可被一个或多个R²基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团，或这些体系的组合；同时，两个或更多个相邻的R¹取代基还可以一起形成单环或多环的脂族或芳族环系；

R²在每次出现时是相同或不同的并且是H，D，F，Cl，Br，I，B(OR³)₂，CHO，C(＝O)R³，CR³＝C(R³)₂，CN，C(＝O)OR³，C(＝O)N(R³)₂，Si(R³)₃，N(R³)₂，NO₂，P(＝O)(R³)₂，OSO₂R³，OR³，S(＝O)R³，S(＝O)₂R³，具有1至40个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团或者具有3至40个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团，所述基团中的每个可被一个或多个R³基团取代，其中一个或多个不相邻的CH₂基团可被-R³C＝CR³-、-C≡C-、Si(R³)₂、C＝O、C＝S、C＝NR³、-C(＝O)O-、-C(＝O)NR³-、NR³、P(＝O)(R³)、-O-、-S-、SO或SO₂代替，并且其中一个或多个氢原子可被D、F、Cl、Br、I、CN或NO₂代替，或者具有5至40个芳族环原子并且在每种情况下可被一个或多个R³基团取代的芳族或杂芳族环系，或者具有5至40个芳族环原子并可被一个或多个R³基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团，或这些体系的组合；同时，两个或更多个相邻的R²取代基还可以一起形成单环或多环的脂族或芳族环系；

R³在每次出现时是相同或不同的并且是H，D，F，或者具有1至20个碳原子的脂族、芳族和/或杂芳族烃基基团，其中氢原子也可以被F代替；同时，两个或更多个相邻的R³取代基还可以一起形成单环或多环的脂族或芳族环系；

h在每次出现时独立地是0、1、2、3或4；

Ar⁴是具有6至40个碳原子的芳基基团或具有3至40个碳原子的杂芳基基团，所述基团中的每个可被一个或多个R₁基团取代；

条件是

Ar²和/或Ar³基团的至少一个是式(IIc)、(IId)、(IIe)或(IIf)的基团，

其中全部X是CR¹，其中X表示的所述CR¹基团中的最多4个不是CH基团，R⁴是H、具有6至30个芳族环原子的芳族环系或具有1至20个碳原子的烷基基团；

L²是键，具有6至60个碳原子的芳族环系或具有3至60个碳原子的杂芳族环系，所述环系中的每个可被一个或多个R¹基团取代；

R¹如上所限定的并且虚线表示键合位点，从而使L²与L¹结合到同一氮原子上。