[发明专利]液体处理系统和方法有效
申请号: | 201580059869.6 | 申请日: | 2015-11-03 |
公开(公告)号: | CN107148400B | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | L·R·克里斯曼 | 申请(专利权)人: | 坦南特公司 |
主分类号: | C02F1/00 | 分类号: | C02F1/00;C02F1/68;B01F5/04 |
代理公司: | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人: | 谢栒;蔡艳园 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液体 处理 系统 方法 | ||
一种液体处理系统,包括:主流径;流体联接到主流径的旁路流径;和与旁路流径流体联接的液体调理模块,液体调理模块具有容纳处理组分的储液器,处理组分被添加到从旁路流径进入储液器的液体以形成处理溶液。主流径中的液体的流率以独立于流入主流径中的处理溶液的流率的方式被控制。流体联接到液体调理模块的分配部件以独立于主流径中流动的液体的流率的方式控制流出旁路流径且流入主流径的处理溶液的流率或者压力。液体处理系统包括悬浮在具有最高处理浓度的处理溶液中的滴管系统。
本申请要求2014年11月4日提交的美国临时专利申请No.62/075,061的权益,其全部内容通过引用并入本文。
技术领域
本公开涉及液体处理系统。更具体地,本公开涉及用于处理表面维护机器中使用的液体的系统。
背景技术
用于处理和/或改变液体性质的液体调理模块可用于市政液体处理设备(例如,水处理厂)中的液体处理,或作为家庭或工业液体处理系统的一部分。它们也可用于使用液体的设备,如清洁设备。这种液体调理模块可以包括被添加到液体中以用于各种目的的固体或液体处理组分。例如,液体调理模块可以包括各种化学试剂(称为“处理组分”),这些化学试剂少量地添加到液体中,以控制液体的化学或物理方面,例如液体硬度或水垢。
已知的液体处理液体调理模块系统可能不能有效地处理液体。这些问题在其中液体调理模块使用率、液体流动速度和管线压力上存在变化的应用中尤其明显。在这种情况下,维持一致和稳定的处理组分的浓度水平可能特别困难。此外,现有的系统难以在足够低的流速下操作以提供持久和经济的液体运行,例如用于防止水垢积聚或防止任何其它数量的不期望的液体特性。许多已知的液体处理系统由于使用它们的设备的多种操作条件,诸如延长的设备停机时间、可变流率(通常由操作员调节)和液体管线压力的相关变化、以及较短的启停间隔,而在处理组分浓度变化很大并且寿命缩短的情况下运行。这些操作条件的变化可能会破坏液体流中的处理组分浓度的一致性。这在液体中的处理组分可能剂量不足时影响到系统性能,或者当液体中的处理组分剂量过量时,影响到处理组分的成本。
发明内容
总体上,本公开涉及一种液体处理系统,包括:主流径;与主流径流体连通的旁路流径;与旁路流径流体连通的液体调理模块,液体调理模块具有容纳一种或多种处理组分的储液器,一种或多种处理组分被添加到从旁路流径进入储液器的液体以形成处理溶液,处理溶液流入主流径中;和与主流径流体连通的可协调的压力差控制器,可协调的压力差控制器构造用于在主流径中的第一部分和第二部分之间生成压力差,可协调的压力差控制器构造用于以独立于经由旁路流出口流入主流径的处理溶液的流率的方式控制进入旁路流径的液体的流率。
在一些示例中,液体处理系统包括与液体调理模块和旁路流径流体连通的分配部件,用于以独立于在主流径中流动的液体的流率和/或进入旁路流径的液体的流率的方式控制流出旁路流径并且进入主流径的处理溶液的流率或者压力。
在一些实施例中,处理组分在储液器中成层保持,处理组分层包括接近储液器的底表面的干固体处理层和在干固体处理层上方的悬浮处理材料层,使得进入储液器的液体形成在悬浮处理材料层上方的处理溶液,以使处理溶液成层地形成,各个层具有一处理浓度,在悬浮处理材料层紧接上方的处理溶液层在储液器中具有最高处理浓度。液体调理模块包括滴管系统,滴管系统具有中空管,中空管具有:适于自由悬浮在储液器中的预定深度处的第一管端,预定深度对应于在储液器中具有最高处理浓度的处理层;和流体联接到液体调理模块的出口的第二管端,处理溶液通过出口流出储液器并流向主流径。
一个或多个示例的细节在附图和下面的描述中阐述。其它特征、目的和优点根据说明书和附图以及权利要求书将变得显而易见。
附图说明
图1是具有根据一实施例的液体处理系统的表面维护机器的总体示意图。
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