[发明专利]测量目标结构的属性的方法、检查设备、光刻系统和器件制造方法

权利要求书

1.一种测量衬底上的目标结构的属性的方法，所述方法包括如下步骤：

(a)使用由所述目标结构在照射下衍射的辐射的预定部分获得所述目标结构的图像；

(b)限定多个候选感兴趣区域，各候选感兴趣区域包括在所述图像中的多个像素；

(c)至少部分基于所述感兴趣区域内的像素的信号值，限定用于所述候选感兴趣区域的优化度量值；

(d)直接或间接限定目标信号函数，所述目标信号函数限定了所述图像中的各像素对目标信号值的贡献，各像素的所述贡献取决于(i)哪个候选感兴趣区域包含该像素和(ii)那些候选感兴趣区域的优化度量值；以及

(e)使用通过根据限定的所述目标信号函数将来自检测到的图像的多个像素信号值组合而直接或间接计算的目标信号值，来获得相同目标结构或不同目标结构的属性的测量。

2.如前述权利要求中的任一项所述的方法，其中至少一些感兴趣区域彼此重叠，使得给定像素可以被包含在所述候选感兴趣区域中的超过一个候选感兴趣区域内。

3.如前述权利要求中的任一项所述的方法，其中在步骤(e)中使用多个代表信号值中的至少一个来计算所述目标信号值，各代表信号值是所述候选感兴趣区域中的相应的一个内所包含的像素的像素信号值的组合。

4.如权利要求1至2中的任一项所述的方法，其中在步骤(d)中以贡献映射的形式来限定所述目标信号函数，在所述贡献映射中给定像素对所述目标信号值的贡献由权重值限定，并且在步骤(e)中根据在所述贡献映射中的其相应权重值将来自所述检测到的图像的像素信号值组合。

5.如权利要求1至2中的任一项所述的方法，其中所述优化度量值是基于在相应候选感兴趣区域内所包含的像素的像素信号值的统计离差的量度的。

6.如权利要求1至2中的任一项所述的方法，其中所述优化度量值是基于在包含候选感兴趣区域的集合的多维空间中的代表信号值相对于一个或多个参数的改变的速率的，所述代表信号值是从相应候选感兴趣区域内所包含的像素的像素信号值确定的。

7.如权利要求1至2中的任一项所述的方法，其中步骤(b)包括在所获得的图像中标识有界区域作为预备步骤，所述有界区域对应于特定目标结构，其中各候选感兴趣区域包括在所述有界区域内的多个像素。

8.一种用于测量衬底上的目标结构的属性的检查设备，所述设备包括：

-支撑件，用于在其上形成有所述目标结构的所述衬底；

-光学系统，用于照射所述目标结构并且使用由所述目标结构衍射的辐射的预定部分来获得所述目标结构的图像；

-处理器，被布置成：

限定多个候选感兴趣区域，各候选感兴趣区域包括在所述图像中的多个像素；

至少部分基于所述感兴趣区域内的像素的信号值，限定用于所述候选感兴趣区域的优化度量值；

直接或间接限定目标信号函数，所述目标信号函数限定了所述图像中的各像素对目标信号值的贡献，各像素的所述贡献取决于(i)哪个候选感兴趣区域包含该像素和(ii)那些候选感兴趣区域的优化度量值；以及

使用通过根据限定的所述目标信号函数将来自检测到的图像的多个像素信号值组合而直接或间接计算的目标信号值，来获得相同目标结构或不同目标结构的属性的测量。

9.如权利要求8所述的设备，其中所述候选感兴趣区域在两个或更多参数中相互不同，所述参数限定了所述图像的哪个像素被包含在该候选感兴趣区域内。

10.如权利要求8至9中的任一项所述的设备，其中所述处理器被布置成以贡献映射的形式来限定所述目标信号函数，在所述贡献映射中给定像素对所述目标信号值的贡献由权重值限定，并且在步骤(e)中根据在所述贡献映射中的其相应权重值将来自所述检测到的图像的像素信号值组合。