[发明专利]照射计划装置以及照射计划校正方法

权利要求书

1.一种照射计划装置，该照射计划装置制作粒子线的照射计划，其中，所述照射计划装置具有：

三维扫描数据取得部，其取得利用与所述粒子线不同的放射线对所述粒子线的照射对象进行三维扫描而得到的三维扫描数据；

处方数据取得部，其取得表示对所述照射对象照射粒子线的区域的位置和量的处方数据；

反应物理量分布数据制作部，其根据所述三维扫描数据来制作示出物理量的分布的反应物理量分布数据，所述物理量表示所述照射对象的物质对所述粒子线发生反应的能力；以及

剂量分布计算部，其根据所述处方数据和所述反应物理量分布数据求出剂量分布，

所述反应物理量分布数据制作部由如下部分构成：

阻止能力比校正处理部，其将所述三维扫描数据转换成阻止能力比而制作三维阻止能力比数据，所述阻止能力比是表示所关注的物质相对于水具有多少程度的使入射粒子减速的能力的物理量；和

照射对象物质校正处理部，其根据所述三维阻止能力比数据求出表示水与照射对象物质之间的差异的校正系数，并利用该校正系数按深度对粒子线的深部剂量分布进行校正。

2.根据权利要求1所述的照射计划装置，其中，

所述照射对象物质校正处理部是如下结构：根据原子序数对粒子线的深部剂量分布进行成分划分，或者，根据粒子线的相互作用进行成分划分，按照成分区分地执行深部剂量分布的校正。

3.根据权利要求2所述的照射计划装置，其中，

所述照射对象物质校正处理部是如下核反应有效密度校正处理部：通过将所述三维阻止能力比数据转换成核反应有效密度而制作三维核反应有效密度数据，根据原子序数对粒子线的深部剂量分布进行成分划分，分成应用校正系数的成分和不应用校正系数的成分，从而进行深部剂量分布的校正，其中所述核反应有效密度是表示所关注的物质相对于水有多容易击碎入射粒子的物理量。

4.根据权利要求3所述的照射计划装置，其中，

所述核反应有效密度校正处理部设数据原子序数为3～5的成分为不应用所述校正系数的成分，设原子序数为6的成分为乘以根据粒子线注量的变化求出的衰减校正系数的成分，设原子序数为1～2的成分为乘以所述衰减校正系数的倒数的成分。

5.根据权利要求2所述的照射计划装置，其中，

所述照射对象物质校正处理部是如下粒子线作用校正处理部：将粒子线的深部剂量分布至少分成与电磁相互作用有关的成分以及与核反应有关的成分，并利用校正系数对各个成分分别进行校正。

6.根据权利要求5所述的照射计划装置，其中，

所述照射对象物质校正处理部是如下结构：将粒子线的深部剂量分布分成与所述电磁相互作用有关的成分、与所述核反应有关的成分以及与弹性散射和非弹性散射有关的成分这3个成分，并利用校正系数对这3个成分分别进行校正，然后将校正后的值相加。

7.一种存储介质，其存储有照射计划程序，其中，所述照射计划程序使计算机作为如下部分发挥功能：

三维扫描数据取得部，其取得利用与粒子线不同的放射线对所述粒子线的照射对象进行三维扫描而得到的三维扫描数据；

处方数据取得部，其取得表示对所述照射对象照射粒子线的区域的位置和量的处方数据；

反应物理量分布数据制作部，其根据所述三维扫描数据来制作示出物理量的分布的反应物理量分布数据，所述物理量表示所述照射对象的物质对所述粒子线发生反应的能力；以及

剂量分布计算部，其根据所述处方数据和所述反应物理量分布数据求出剂量分布，

所述照射计划程序使所述反应物理量分布数据制作部作为如下部分发挥功能：

阻止能力比校正处理部，其通过将所述三维扫描数据转换成阻止能力比而制作三维阻止能力比数据，所述阻止能力比是表示所关注的物质相对于水具有多少程度的使入射粒子减速的能力的物理量；和

照射对象物质校正处理部，其根据所述三维阻止能力比数据求出表示水与照射对象物质之间的差异的校正系数，并利用该校正系数按深度对粒子线的深部剂量分布进行校正。