[发明专利]共聚物的制备方法

说明书

本发明提供一种共聚物的制备方法，所述方法为制备含有大量来自芳香族乙烯基化合物的结构单元、且具有羧基以及环氧基的共聚物的方法，其能够进行残存单体少、转化率高的共聚反应，且能够获得分散度低的共聚物。本发明的共聚物的制造方法具有以下工序：使(A)芳香族乙烯基化合物的含有比例为30～80质量％、(B)(甲基)丙烯酸缩水甘油酯的含有比例为1～30质量％、(C)(甲基)丙烯酸的含有比例为1～40质量％的单体混合物在(D)式(1)所表示的过氧化二碳酸二烷基酯的存在下聚合，式(1)R¹—OCOOOCOO—R²式(1)中，R¹以及R²表示C_nH_2n+1(n＝2～8)，R¹以及R²可以相同也可以不相同。

技术领域

本发明涉及一种共聚物的制备方法，具体而言，涉及一种制备含有大量来自芳香族乙烯基化合物结构单元、且具有羧基以及环氧基的共聚物的方法。

背景技术

在液晶显示元件等电子材料领域等中，使用形成有图案的膜，作为在形成该膜时所使用的抗蚀材料之一，开发有利用了光聚合反应的光敏树脂组合物。光敏树脂组合物追求优异的灵敏度及分辨率(以下也称为显影性)，例如，开发有专利文献1的射线敏感性树脂组合物。

该射线敏感性树脂组合物中含有的共聚物，由于包含来自具有羧基的(甲基)丙烯酸的结构单元及来自具有环氧基的(甲基)丙烯酸缩水甘油酯的结构单元，因此具有基于碱性显影液的显影性，所形成的膜可以获得耐性。更进一步，该共聚物由于含有来自芳香族乙烯基化合物的结构单元，灵敏度及显影性优异。

但是，在使含有大量芳香族乙烯基化合物的单体混合物进行共聚时，若使用传统的聚合引发剂(以下也简称为引发剂)进行聚合反应，则在通常的聚合条件下，存在残存单体增多、转化率变低的问题。为了减少残存单体，通常采取增加引发剂量、提高反应温度、延长反应时间的方法。但是，在这些情况下，容易引起因单体中的羧基及环氧基造成的副反应，变成多分散度(Mw/Mn)高的共聚物，因此存在显影性变差的问题。

即，在现有技术中，难以进行残存单体少、转化率高的聚合反应，或者无法得到多分散度低的共聚物。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利公开2012-63626号公报

发明内容

本发明要解决的技术问题

本发明是基于上述情况而作出的，其目的在于提供一种共聚物的制备方法，所述方法为制备含有大量来自芳香族乙烯基化合物的结构单元、且具有羧基及环氧基的共聚物的方法，其能够进行残存单体少、转化率高的聚合反应，且可以得到分散度低的共聚物。

解决技术问题的技术手段

本发明的发明人们鉴于上述技术问题进行了认真研究，结果发现在制备含有大量来自芳香族乙烯基化合物的结构单元、且具有羧基及环氧基的共聚物的方法中，通过使用特定的引发剂进行聚合反应，能够解决上述技术问题，进而完成了本发明。

即，本发明为一种共聚物的制备方法，该方法具有以下工序：使(A)芳香族乙烯基化合物的含有比例为30～80质量％、(B)(甲基)丙烯酸缩水甘油酯的含有比例为1～30质量％、(C)(甲基)丙烯酸的含有比例为1～40质量％的单体混合物在(D)式(1)所表示的过氧化二碳酸二烷基酯的存在下聚合，

式(1)R¹—O(CO)OO(CO)O—R²

式(1)中，R¹以及R²表示C_nH_2n+1(n＝2～8)，R¹以及R²可以相同也可以不相同。