[发明专利]用于流体热处理的具有回流管线的塔

权利要求书

1.用于流体热处理的塔(1)，其具有：

圆柱形的垂直塔体(2)，所述塔体(2)形成了塔腔(3)；和

传质塔盘(4)，所述传质塔盘(4)设置在塔腔(3)中并且形成了收集区域(5)，

其特征在于

循环装置(9)，所述循环装置(9)具有至少一个排出孔(10)、与排出孔(10)流体连接的循环管线(11)和至少一个再循环孔(14；14-1至14-3)，所述排出孔(10)在收集区域(5)上方的塔体(2)中形成，所述再循环孔(14；14-1至14-3)与循环管线(11)流体连接且在收集区域(5)上方的塔体(2)中形成，

其中传质塔盘(4)具有用于从底部上升气体的通孔(20)，且圆柱形主体(8)在通孔(20)中向上延伸，

其中圆柱形主体(8)的上边缘(23)是溢流边缘，且传质塔盘(4)的收集区域(5)的最低区域(L1)至再循环孔(14；14-1至14-3)的上边缘(25)的垂直间隔与传质塔盘(4)的收集区域(5)的最低区域(L1)至圆柱形主体(8)的最低溢流边缘的高度(L5)处的垂直间隔的比值在0至0.9的范围内。

2.根据权利要求1所述的塔(1)，其中传质塔盘(4)的收集区域(5)的最低区域(L1)至再循环孔(14；14-1至14-3)的上边缘(25)的垂直间隔与传质塔盘(4)的收集区域(5)的最低区域(L1)至圆柱形主体(8)的最低溢流边缘的高度(L5)处的垂直间隔的比值在0至0.3的范围内。

3.根据权利要求1所述的塔(1)，其中排出孔(10)设置在紧邻传质塔盘(4)的收集区域(5)的最低区域的上方。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的塔(1)，其中将多个传质塔盘(4)以垂直间隔的方式布置在塔腔(3)中，并且将排出孔(10)和再循环孔(14；14-1至14-3)以垂直间隔的方式垂直布置在两个相邻的传质塔盘(4)之间。

5.根据权利要求4所述的塔(1)，其中传质塔盘(4)的收集区域(5)的最低区域(L1)至排出孔(10)的下边缘(24)的垂直间隔与传质塔盘(4)的收集区域(5)的最低区域(L1)至直接设置在上方的传质塔盘(4)的下侧(26)的垂直间隔的比值在0至0.3的范围内。

6.根据权利要求4所述的塔(1)，其中传质塔盘(4)的收集区域(5)的最低区域(L1)至排出孔(10)的下边缘(24)的垂直间隔与传质塔盘(4)的收集区域(5)的最低区域(L1)至直接设置在上方的传质塔盘(4)的下侧(26)的垂直间隔的比值在0至0.1的范围内。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的塔(1)，其中再循环孔(14；14-1至14-3)在排出孔(10)上方通入塔腔(3)中。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的塔(1)，其中再循环孔(14；14-1至14-3)在与排出孔(10)相同高度处通入塔腔(3)中。

9.根据权利要求4所述的塔(1)，其中传质塔盘(4)的收集区域(5)的最低区域(L1)至再循环孔(14；14-1至14-3)的上边缘(25)的垂直间隔与传质塔盘(4)的收集区域(5)的最低区域(L1)至直接设置在上方的传质塔盘(4)的下侧(26)的垂直间隔的比值在0至0.3的范围内。

10.根据权利要求4所述的塔(1)，其中传质塔盘(4)的收集区域(5)的最低区域(L1)至再循环孔(14；14-1至14-3)的上边缘(25)的垂直间隔与传质塔盘(4)的收集区域(5)的最低区域(L1)至直接设置在上方的传质塔盘(4)的下侧(26)的垂直间隔的比值在0至0.2的范围内。

11.根据权利要求1-3中任一项所述的塔(1)，其中在再循环孔(14；14-1至14-3)中设置喷嘴(15)，该喷嘴(15)用于在液体进入塔腔(3)时产生液体射流。