[发明专利]形成有多个纳米间隙的基底及其制备方法

权利要求书

1.一种具有多个纳米间隙的基底，包含：

基底，包含彼此间隔开的突起结构；

含有金属的薄层，在所述基底和所述突起结构的表面上形成；

绝缘层，在所述含有金属的薄层上形成；和

含有金属的纳米颗粒，在所述绝缘层上形成，

其中，所述含有金属的纳米颗粒与其它含有金属的纳米颗粒之间以及与所述含有金属的薄层之间具有纳米间隙，并且

其中，所述含有金属的纳米颗粒最初在所述基底和所述突起结构的表面上均匀地沉积，但是随着沉积的进行，在所述突起结构的上部集中沉积。

2.根据权利要求1所述的具有多个纳米间隙的基底，其中，所述含有金属的薄层是通过真空沉积拉曼活性材料形成的。

3.根据权利要求1所述的具有多个纳米间隙的基底，其中，所述基底为聚合物基底。

4.根据权利要求1所述的具有多个纳米间隙的基底，其中，所述突起结构通过等离子体蚀刻、压印和光刻中的至少一种形成。

5.一种拉曼分光装置，包含：

光源；

权利要求1所述的基底；和

检测器，被设置以用于检测拉曼光谱。

6.一种包含多个纳米间隙的基底，包含：

基底，包含彼此间隔开的突起结构；

含有金属的纳米颗粒，在所述基底和所述突起结构的表面上形成；和

在所述包含有突起结构的基底和含有金属的纳米颗粒之间的连续层，包含至少一层含有无机材料的薄层和至少一层含有金属的薄层，

其中，所述纳米间隙位于所述含有金属的纳米颗粒之间，以及所述含有金属的纳米颗粒与所述含有金属的薄层之间，并且

其中，所述含有金属的纳米颗粒最初在所述基底和所述突起结构的表面上均匀地沉积，但是随着沉积的进行，在所述突起结构的上部集中沉积。

7.根据权利要求6所述的包含多个纳米间隙的基底，其中，所述连续层包括两个含有金属的薄层和其间的含有无机材料的薄层，并且

其中，所述纳米间隙位于所述两个含有金属的薄层之间。

8.根据权利要求6所述的包含多个纳米间隙的基底，其中，所述连续层包括第一含有无机材料的薄层，含有金属的薄层和第二含有无机材料的薄层。

9.一种包含多个纳米间隙的基底，包含：

基底，包含彼此间隔开的突起结构；

含有金属的纳米颗粒，位于所述包含有突起结构的基底的表面上；和

位于所述含有金属的纳米颗粒内部的连续层，包含至少一层含有无机材料的薄层和至少一层含有金属的薄层，

其中，所述纳米间隙位于所述含有金属的纳米颗粒之间，以及所述含有金属的纳米颗粒与所述含有金属的薄层之间，并且

其中，所述含有金属的纳米颗粒最初在所述基底和所述突起结构的表面上均匀地沉积，但是随着沉积的进行，在所述突起结构的上部集中沉积。

10.根据权利要求9所述的包含多个纳米间隙的基底，其中，所述连续层包括两个含有金属的薄层和其间的含有无机材料的薄层，并且

其中，所述纳米间隙位于所述两个含有金属的薄层之间。

11.根据权利要求9所述的包含多个纳米间隙的基底，其中，所述连续层包括第一含有无机材料的薄层，含有金属的薄层和第二含有无机材料的薄层。