[发明专利]涡旋型流体设备

说明书

一种涡旋型流体设备，使得以阿基米德螺线形成环绕件的涡卷形状的涡旋单元的轴向上的密封性。在以阿基米德螺线形成定涡盘(2)及动涡盘(3)的环绕件(2b、3b)的涡卷形状的涡旋型流体设备(1)中，将定涡盘(2)和动涡盘(3)的环绕件外周部的精加工终点附近的环绕件壁厚(A)设为能配置顶端密封件(40、41)的最小壁厚(As)(As＝2×B1s(或B2s)+c)。B1s是从环绕件外壁至顶端密封槽的最小壁厚，B2s(＝B1s)是从环绕件内壁至顶端密封槽的最小壁厚，c(固定)为顶端密封件宽度。

技术领域

本发明涉及一种涡旋型流体设备，详细而言涉及一种使以阿基米德螺线形成环绕件的涡卷形状的涡旋单元的轴向上的密封性得到提高的涡旋型流体设备。

背景技术

涡旋型流体设备包括涡旋单元，该涡旋单元具有在底板立设有涡卷状的环绕件的定涡盘和动涡盘，并在彼此相对地啮合的两个涡盘的环绕件之间形成密闭空间，上述涡旋型流体设备通过自转阻止机构阻止动涡盘的自转，并且使动涡盘绕定涡盘的轴心进行公转回旋运动，来使密闭空间的容积变化，以使流体压缩或是膨胀。

作为这种涡旋型流体设备，例如存在专利文献1所记载的这种流体设备。上述涡旋型流体设备用阿基米德螺线的方式形成动涡盘和动涡盘的各环绕件的涡卷形状。若将环绕件的涡卷形状设为阿基米德螺线，则由于能使环绕件的壁厚随着从环绕件的中央部向外周部而逐渐减小(变薄)，因此，能实现涡旋单元的小型轻量化。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特许第3291844号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

然而，在涡旋单元1中，为了防止单元在轴向上的流体泄漏，在环绕件各自的上端面形成顶端密封槽，以配置顶端密封件。在由通常的渐开曲线(日文：インボリュート曲線)形成环绕件的涡卷形状的情况下，由于环绕件的壁厚是固定的，因此，将配置顶端密封件的环绕件上端面的顶端密封槽的螺旋形状形成为从环绕件的中央部(卷绕开始部)至外周部(卷绕结束部)相同的螺旋形状，从而能配置足以防止流体泄漏的长度的顶端密封件。然而，在以阿基米德螺线形成环绕件的涡卷形状的情况下，由于环绕件壁厚随着从环绕件的中央部(卷绕开始部)向外周部(卷绕结束部)减小(变薄)，因此，无法将顶端密封件配置到直至环绕件外周部，与以渐开曲线形成环绕件的涡卷形状的情况相比，存在有损涡旋单元在轴向上的密封性的可能性。

本发明是着眼于上述问题点而作，其目的在于提供一种涡旋型流体设备，实现了涡旋单元的小型轻量化，并且使以阿基米德螺线形成环绕件的涡卷形状的涡旋单元在轴向上的密封性得到提高。

解决技术问题所采用的技术方案

因此，本发明的涡旋型流体设备包括涡盘单元，该涡盘单元使在底板立设有涡卷状的环绕件的、且在形成于环绕件的上端面的顶端密封槽中配置有顶端密封件的定涡盘及动涡盘彼此相对，来使各自的环绕件啮合，自转受到阻止的上述动涡盘一边与上述定涡盘接触一边进行公转，在各环绕件之间形成容积随着公转发生变化的密闭空间，上述涡旋型流体设备以使环绕件壁厚随着从环绕件的中央部向外周部减小的阿基米德螺线形成上述两个涡盘的环绕件的涡卷形状，其特征是,将上述两个涡盘中的至少一个涡盘的环绕件外周部的精加工终点附近的环绕件壁厚设为能够配置上述顶端密封件的最小壁厚。

发明效果

根据本发明的涡旋型流体设备，在以环绕件壁厚随着从环绕件的中央部向外周部减小的阿基米德螺线形成涡盘的环绕件涡卷形状的涡旋单元中，由于将涡盘的环绕件外周部的精加工终点附近的环绕件壁厚设为能够配置顶端密封件的最小壁厚，因此，即使在以阿基米德螺线形成环绕件涡卷形状的情况下，也能可靠地将顶端密封件配置到环绕件的外周部。因而，能使涡旋单元小型轻量化，并且能提高以阿基米德螺线形成环绕件的涡旋单元的轴向上的密封性。

附图说明