[发明专利]基于三联噻吩的共轭聚合物及其应用有效
申请号: | 201580049530.8 | 申请日: | 2015-10-22 |
公开(公告)号: | CN107108860B | 公开(公告)日: | 2020-05-05 |
发明(设计)人: | 颜河;胡华伟 | 申请(专利权)人: | 天光材料科技股份有限公司 |
主分类号: | C08G61/12 | 分类号: | C08G61/12;C07D333/06;C07D333/10 |
代理公司: | 北京信诺创成知识产权代理有限公司 11728 | 代理人: | 尹吉伟 |
地址: | 中国台湾新竹市新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 三联 噻吩 共轭 聚合物 及其 应用 | ||
1.一种共轭聚合物,含有5个或更多个式(II)重复单元:
其中一个式(II)的单元通过*键与另一个式(II)的单元互相键结,并且相邻的Ar1和Ar2之间有三个噻吩单元;
M5、M6、M7、M8、M9、M10、M11、M12独立地选自H或F;且
R1和R2独立地选自具有2-40个C原子的直链、支链或环状烷基基团,其中多个非相邻C原子中的一个任选地由–O–、–S–、–C(O)–、–C(O–)–O–、–O–C(O)–、–O–C(O)–O–或–C≡C–替代,且其中一个或多个H原子任选地由F、Cl、Br、I或CN替代,或者R1和R2表示未取代的或者由一个或多个非芳香基团取代的具有4至30个环原子的芳基、杂芳基、芳氧基、杂芳氧基、芳基羰基、杂芳基羰基、芳基羰氧基、杂芳基羰氧基、芳氧基羰基或杂芳氧基羰基;且
Ar1和Ar2独立地选自:
2.根据权利要求1所述的共轭聚合物,其中:
M5、M6、M7、M8、M9、M10、M11、M12为H原子;且
R1和R2独立地选自具有2-40个C原子的直链或支链烷基基团,且R1和R2中的至少一个是具有6-40个C原子的支链烷基基团。
3.根据权利要求2所述的共轭聚合物,其中R1和R2独立地选自具有6-40个C原子的支链烷基基团。
4.一种组合物,包含不使用任何加工助剂溶解于或者分散于液体介质中的根据权利要求3所述的共轭聚合物。
5.一种光学、电子或者光电子器件,包含根据权利要求3所述的共轭聚合物。
6.根据权利要求5所述的器件,其中所述器件选自有机场效应晶体管、有机发光晶体管和有机光生伏打器件。
7.一种共轭聚合物,含有5个或更多个式(IV)重复单元:
其中R1和R2独立地选自具有10-30个C原子的支链烷基基团。
8.根据权利要求7所述的共轭聚合物,其中R1是2-己基癸基,R2是2-己基壬基。
9.一种组合物,包含不使用任何加工助剂溶解于或者分散于液体介质中的根据权利要求7所述的共轭聚合物。
10.一种光学、电子或者光电子器件,包含根据权利要求7所述的共轭聚合物。
11.根据权利要求10所述的器件,其中所述器件选自有机场效应晶体管、有机发光晶体管和有机光生伏打器件。
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