[发明专利]带模式跟踪的光学泵浦半导体激光器有效
申请号: | 201580044751.6 | 申请日: | 2015-07-24 |
公开(公告)号: | CN107005024B | 公开(公告)日: | 2019-06-21 |
发明(设计)人: | C·凯恩吉赛尔 | 申请(专利权)人: | 相干激光系统有限公司 |
主分类号: | H01S5/14 | 分类号: | H01S5/14;H01S5/04;H01S5/024 |
代理公司: | 余姚德盛专利代理事务所(普通合伙) 33239 | 代理人: | 郑洪成 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 模式 跟踪 光学 半导体激光器 | ||
1.激光器装置,包括:
激光器谐振器,其包括多层半导体增益结构,所述增益结构由光学泵浦辐射供给能量,从而使得基频辐射在所述激光器谐振器中循环,所述基频是取决于所述激光器-谐振器的即时长度的一系列的可能振荡的频率中的一个;
光学非线性晶体,其位于所述激光器-谐振器中且布置成用于循环的基频辐射的II型倍频,所述光学非线性晶体在预定温度范围内具有可接受带宽;
加热元件,其布置成选择性地使得所述晶体的温度在预定温度范围内改变;
第一双折射滤波器,其位于所述激光器谐振器中,配置且布置成将能够在增益带宽内振荡的一系列可能的基频限制到其在光学非线性晶体的可接受带宽内的范围内,其中所述光学非线性晶体起到具有取决于晶体温度的透射率峰值的第二双折射滤波器的作用;
检测器,其布置成监测从所述第一双折射滤波器反射的基频辐射,当第二双折射滤波器的透射率峰值处于可能的振荡频率中的即时振荡频率时,所反射的辐射处于最小值;以及
控制器,用于接收来自所述检测器的误差信号并控制所述加热元件作为对此的应答,其采取将所监测的反射保持在大约最小值处,从而将所述第二双折射滤波器的透射率峰值保持在大约所述即时振荡频率处的方式。
2.如权利要求1所述的装置,其中所监测的反射被保持在非零值,从而提供反射斜率以确定误差信号的方向。
3.如权利要求2所述的装置,其中所监测的反射处于每一百万循环基频辐射功率的大约50份的值处。
4.如权利要求1所述的装置,其中所述激光器谐振器具有大约70mm的长度,并且可能的振荡波长分开大约7微微米。
5.如权利要求1所述的装置,其中所述光学非线性晶体是硼酸锂晶体。
6.一种操作激光器装置的方法,所述激光器具有激光器谐振器,所述激光器谐振器包括多层半导体增益结构,所述多层半导体增益结构由光学泵浦辐射供给能量,从而使得基频辐射在激光器谐振器中循环,所述激光器谐振器包括布置成用于循环基频辐射的II型倍频的光学非线性晶体,所述激光器谐振器还包括双折射滤波器,所述方法包括:
监测从所述双折射滤波器反射的基频辐射的强度并生成误差信号;以及
基于所述误差信号来调节所述非线性晶体的温度以使模式跳跃最小化。
7.如权利要求6所述的方法,其中所述非线性晶体的温度是以将所监测的强度保持在非零值从而提供反射斜率以确定误差信号的方向的方式来调节的。
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