[发明专利]冲击器喷雾离子源

权利要求书

1.一种离子源，包含：

一个或多个雾化器和一个或多个标靶，其中所述一个或多个雾化器被安排并且被适配为在使用中发射主要是液滴的流，致使这些液滴冲击在所述一个或多个标靶上，以便电离所述液滴以形成多个离子；并且

其中所述一个或多个标靶进一步包含：

被配置成扰动沿着所述一个或多个标靶的表面流动的气体的一个或多个结构，其中所述一个或多个结构被配置成促进表面流漩涡，这些表面流漩涡促进气体流保持附接到所述表面上。

2.如权利要求1所述的离子源，其中所述一个或多个结构包含一个或多个涡旋产生结构。

3.如权利要求1或2所述的离子源，其中所述一个或多个结构包含空气动力学形状或者轮廓，所述空气动力学形状或者轮廓被配置成促进表面流漩涡，这些表面流漩涡促进气体流保持附接到所述表面上。

4.如权利要求1或2所述的离子源，其中所述一个或多个结构被安置于停滞点或停滞线的下游、和/或分离点或分离线的上游，其中当气体的流接近固体物体时，达到所述停滞点或停滞线，在所述停滞点或停滞线处所述流变得附接到所述固体物体的表面上并且局部表面速度变为零；所述分离点是所述流与所述表面分离的点；所述分离线是所述流与所述表面分离的线。

5.如权利要求1或2所述的离子源，其中所述一个或多个结构包含由所述一个或多个标靶的表面延伸的突起和/或延伸到所述一个或多个标靶的表面中的缺口或空腔。

6.如权利要求1或2所述的离子源，其中所述一个或多个结构包含具有纵轴的一个或多个边条或翼片，所述纵轴是与在该标靶上或周围流动的气体的方向平行或不平行。

7.如权利要求6所述的离子源，其中所述纵轴是与在所述标靶上或周围流动的气体的方向垂直。

8.如权利要求1或2所述的离子源，其中所述一个或多个结构包含以下各项中的至少一项：

(i)单一结构或多个结构；

(ii)单列或多列的结构；

(iii)立方体、长方体、圆柱体、或多面体的结构；

(iv)在结构之间具有不规则间隔的结构；以及

(v)被印刷、蚀刻或微加工到所述一个或多个标靶的表面中的连续的微图案化的表面。

9.如权利要求1或2所述的离子源，其中所述一个或多个结构被安置于流经所述一个或多个标靶的气体的主方向上。

10.如权利要求9所述的离子源，其中所述一个或多个标靶包含圆柱体管或圆柱体杆，并且流经所述一个或多个标靶的气体的所述主方向是围绕所述圆柱体管或所述圆柱体杆的圆周的一部分的方向。

11.如权利要求9所述的离子源，其中所述一个或多个标靶包含呈板形式的平面表面，并且流经所述一个或多个标靶的气体的所述主方向是沿着所述平面表面。

12.如权利要求1或2所述的离子源，其中所述一个或多个结构的高度或深度与流经所述一个或多个标靶的所述气体的边界层厚度相同。

13.一种离子源，该离子源包含：

一个或多个雾化器和一个或多个标靶，其中所述一个或多个雾化器被安排并且被适配为在使用中发射主要是液滴的流，致使这些液滴冲击在所述一个或多个标靶上；并且

其中所述一个或多个标靶进一步包含：

被配置成扰动沿着所述一个或多个标靶的表面流动的气体的一个或多个结构，其中所述一个或多个结构被配置成促进表面流漩涡，这些表面流漩涡促进气体流保持附接到所述表面上，

其中所述一个或多个标靶包含弯曲的表面，致使所述主要是液滴的流冲击在所述弯曲的表面上。

14.如权利要求13所述的离子源，其中所述一个或多个结构包含延伸到所述一个或多个标靶的表面中的缺口或空腔。