[发明专利]高分子化合物和使用该高分子化合物的有机半导体元件在审
| 申请号: | 201580039519.3 | 申请日: | 2015-07-15 |
| 公开(公告)号: | CN106661209A | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
| 发明(设计)人: | 樫木友也;吉川荣二 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
| 主分类号: | C08G61/12 | 分类号: | C08G61/12;C07D495/02;H01L29/786;H01L51/05;H01L51/30;H01L51/46;H01L51/50 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 葛凡 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 高分子化合物 使用 有机半导体 元件 | ||
技术领域
本发明涉及高分子化合物和使用该高分子化合物的有机半导体元件。
背景技术
利用高分子化合物的有机半导体材料的有机晶体管具有如下优点:与以往的利用无机半导体材料的晶体管相比,具有能够在低温进行制造;另外,能够通过涂布法形成有机晶体管的活性层,因而能够以简易的工艺进行制造。
有机半导体材料例如提出了下述式所示的高分子化合物(非专利文献1)。
现有技术文献
非专利文献
非专利文献1:Journal of American Chemical Society、2010年、第一32卷、11437页
发明内容
作为有机晶体管的典型元件结构之一的顶栅极-底接触(以下也称作“TGBC”)元件结构尽管可得到比较高的载流子迁移率,但是为了在活性层上成膜栅极绝缘膜,需要留意对活性层的损害的制造工艺。另一方面,作为其它的典型元件结构之一的底栅极-底接触(以下称作“BGBC”)元件结构由于在栅极绝缘膜上形成活性层,因此元件的制造工艺是容易的。
上述的高分子化合物在用作有机晶体管的活性层的构成材料时,对于BGBC元件结构而言载流子迁移率不充分,对于TGBC元件结构而言期望更高的载流子迁移率。
本发明的目的在于提供一种高分子化合物,其在用作有机晶体管的活性层的构成材料时,即便在BGBC元件结构和TGBC元件结构中任一元件结构中也能够发挥优异的载流子迁移率。
本发明如下所述。
[1]一种高分子化合物,其包含式(1)所示的结构单元。
[式中,
环A和环B各自独立地表示杂环,该杂环可以具有取代基。
环C表示不具有线对称轴和旋转轴的稠合的芳香族杂环,该芳香族杂环可以具有取代基。
Z1和Z2各自独立地表示式(Z-1)所示的基团、式(Z-2)所示的基团、式(Z-3)所示的基团、式(Z-4)所示的基团、式(Z-5)所示的基团、式(Z-6)所示的基团、或式(Z-7)所示的基团。]
[式中,
R表示烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、烷硫基、环烷硫基、芳基或一价杂环基,这些基团可以具有取代基。在存在多个R的情况下,它们可以相同也可以不同。]
[2]如[1]所述的高分子化合物,其中,上述式(1)所示的结构单元为式(2)所示的结构单元。
[式中,
环A、环B、Z1和Z2表示与上文相同的含义。
X3表示氧原子、硫原子或硒原子。
环D表示选自苯环和2~4个苯环稠合成的稠环中的芳香族烃环,该芳香族烃环可以具有取代基。]
[3]如[2]所述的高分子化合物,其中,上述式(2)所示的结构单元为式(3)所示的结构单元。
[式中,
环A、环B、X3、Z1和Z2表示与上文相同的含义。
R1和R2各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、烷硫基、环烷硫基、芳基、一价杂环基、卤原子、甲硅烷基、氨基、烯基、环烯基、炔基、羟基、硝基、氰基、羧基、烷基羰基、环烷基羰基、烷氧羰基或环烷氧羰基,这些基团之中,烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、烷硫基、环烷硫基、芳基、一价杂环基、甲硅烷基、氨基、烯基、炔基、烷基羰基、环烷基羰基、环烷氧羰基和环烷氧羰基各自可以具有取代基。]
[4]如[3]所述的高分子化合物,其中,上述式(3)所示的结构单元为式(4)所示的结构单元。
[式中,
R1、R2、X3、Z1和Z2表示与上文相同的含义。
X1和X2各自独立地表示氧原子、硫原子或硒原子。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学株式会社,未经住友化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201580039519.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





