[发明专利]具有官能化星型聚合物的薄膜复合膜有效

专利信息
申请号: 201580038032.3 申请日: 2015-07-13
公开(公告)号: CN106659984B 公开(公告)日: 2019-01-18
发明(设计)人: 罗英惠;V·李;G·J-M·杜博伊斯;R·D·米勒;J·斯利 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: B01D69/12 分类号: B01D69/12;B01D67/00;B32B27/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈文平;张波
地址: 美国纽*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 具有 官能 化星型 聚合物 薄膜 复合
【权利要求书】:

1.纳滤膜,其包含在载体上的水可渗透的活性层,其中所述活性层包含至少8个星型聚合物阻隔层,其中所述星型聚合物包含至少三个连接到中心核的线性聚合物,且其中每个所述阻隔层具有5-50nm的厚度,这些阻隔层具有交替的电荷。

2.根据权利要求1所述的纳滤膜,其中这些阻隔层通过静电相互作用彼此粘附。

3.根据权利要求1所述的纳滤膜,其中交替的星型聚合物阻隔层中的至少一个通过氢键与另一层粘附。

4.根据权利要求2所述的纳滤膜,其中至少一个所述阻隔层包含具有羧基部分的带负电荷的星型聚合物。

5.根据权利要求2所述的纳滤膜,其中至少一个所述阻隔层包含具有铵部分的带正电荷的星型聚合物。

6.根据权利要求2所述的纳滤膜,其中至少一个所述阻隔层包含电中性的亲水表面官能部分。

7.根据权利要求6所述的纳滤膜,其中所述中性亲水表面官能部分是聚乙二醇。

8.用于制备纳滤膜的方法,其包括

a)将具有第一表面电位的支撑膜的表面暴露于第一溶液以在所述表面上形成第一带电阻隔层,其中所述第一溶液包含在第一溶剂中的第一星型聚合物,且其中所述第一星型聚合物具有与所述第一表面电位相反的第二表面电位;

b)将所述第一带电阻隔层暴露于第二溶液以在所述第一带电阻隔层上形成第二带电阻隔层,其中所述第二溶液包含第二溶剂和第二星型聚合物,其具有与所述第二表面电位相反的第三电位;和

c)重复步骤a)和b)以在所述支撑膜上形成阻隔层的多层堆叠,其中每一个所述阻隔层包含自组装星型聚合物。

9.根据权利要求8所述的方法,其中所述阻隔层通过浸涂、旋涂或喷涂及其组合进行施加。

10.根据权利要求8所述的方法,其包括在步骤b)之前用溶剂清洗所述第一带电阻隔层的表面。

11.根据权利要求8所述的方法,其包括在步骤c)之前用溶剂清洗所述第二带电阻隔层的表面。

12.根据权利要求8所述的方法,其中所述第一溶剂是水。

13.根据权利要求8所述的方法,其中所述第二溶剂是水。

14.根据权利要求8所述的方法,其中所述支撑膜具有1至50nm范围内的平均孔径。

15.根据权利要求8所述的方法,其中所述支撑膜具有5至20nm范围内的平均孔径。

16.根据权利要求8所述的方法,其中所述第一星型聚合物包含铵官能团。

17.根据权利要求8所述的方法,其中所述第二星型聚合物包含羧基官能团。

18.根据权利要求8所述的方法,其中所述支撑膜的表面通过在步骤(a)之前施加等离子体、紫外光和臭氧中的至少一种进行预处理。

19.根据权利要求8所述的方法,其包括在步骤c)之后通过热处理、光化学处理和通过使用交联剂中的至少一种,来交联所述多层堆叠。

20.根据权利要求8所述的方法,其中所述多层堆叠包括至少8个星型聚合物阻隔层,且其中每个所述阻隔层具有5-50nm的厚度,所述阻隔层具有交替的电荷。

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