[发明专利]井底工具在审
| 申请号: | 201580037463.8 | 申请日: | 2015-05-12 |
| 公开(公告)号: | CN107109921A | 公开(公告)日: | 2017-08-29 |
| 发明(设计)人: | D·帕克 | 申请(专利权)人: | D·帕克 |
| 主分类号: | E21B47/002 | 分类号: | E21B47/002;E21B47/017 |
| 代理公司: | 北京市铸成律师事务所11313 | 代理人: | 郝文博,李够生 |
| 地址: | 澳大利亚*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 井底 工具 | ||
技术领域
本发明涉及用于钻孔的勘测工具。
本发明已经被特别地设计成涉及(但不一定仅涉及)用于勘测井的工具,更确切地说,涉及包括清洗工具和摄像机的井底勘测工具。
背景技术
背景技术的以下讨论意在仅促进对本发明的理解。该讨论并非确定或承认所引用的任何材料现在或曾经是在本申请的优先权之日时公知常识的一部分。
井喷(也称作井涌)可能会引起灾难事件。此类事件的实例是2010年4月20日发生的英国石油公司的环境灾难。
井喷是碳氢化合物从井的不受控的释放。通常而言,喷出在井中所包含的压力控制系统失效之后发生。
目前,井包括用以避免喷出的防喷器(BOP)。BOP控制井内的压力和碳氢化化合物的流动,并且避免工具和钻井部件被射出井外。
重要的是,对井的内部进行常规测试,并且确切地说对BOP进行常规测试。例如,BOP包括可能被诸如泥浆、水泥或金属残渣粘结的剪切机和填料密封件。这可能会使得BOP不工作。这些密封件的定期检查和清洗对于确保BOP的正确运行是至关重要的。
常规测试包括对包括在井中的设备且特别是BOP的视觉检查。进行视觉检查的原因之一是能够将杂质的位置和构造视觉化。将杂质的位置及其构造视觉化容许在杂质所在的特定位置处应用清洗方法。这使得清洗方法更加高效。
常见勘测工具的特定缺点在于,使用这些常见工具的检查和清洗方法繁琐且耗时。这尤其是因为所述方法需要使用单独被部署在井中的众多钻柱工具。举例来说,通常而言,一开始要将喷射清洗工具部署到立管中。该工具对井的内部且特别是BOP进行清洗。在该特定清洗方法完成之后,将喷射清洗工具从井移除并且将常见的井底摄像机插入井中用于对井的内部及其设备进行检查。
遗憾的是,在许多情况下,由清洗工具执行的清洗方法可能没有适当地除去所有杂质;在这种情况下,需要使用喷射清洗工具对井的内部进行进一步清洗。为此,需要从井中拉出勘测工具以便将清洗工具重新部署到井中以进一步清洗井。这对钻井活动增加了额外的成本。
目前,存在结合了用于将清洗流体排放到井中的排放口的勘测工具。这允许在对井的内部以及定位在井中的设备进行检查之前除去杂质的某些部分。
然而,流体的排放并不足以对井的内部以及定位在井中的设备进行适当地清洗。目前,适当清洗仅可使用喷射清洗工具执行。
本发明就是在这种背景下提出的。
发明概要
根据本发明的第一方面,提供一种附接至钻柱的勘测工具,所述钻柱用于将所述勘测工具插入到钻孔中,所述勘测工具包括:外壳,其具有被调适用于附接至钻柱的近端和横穿所述外壳的被调适用于从钻柱接收流体的孔;以及被调适成接收在所述孔内的活塞,所述活塞被调适成在至少第一状态与第二状态之间选择性地移位,其中在所述第一状态下,流体在第一位置处离开所述外壳,并且在所述第二状态下,流体在第二位置处离开所述外壳。
优选地,活塞被调适成在第一状态、第二状态与另一第三状态之间选择性地移位。
优选地,在第三状态下,流体在第三位置处离开外壳,所述第三位置允许流体离开外壳以对钻孔进行冲洗。
优选地,第一位置包括外壳的容许流体离开外壳以便对钻孔的侧壁或包含在钻孔中的设备进行压力喷射的侧面。
优选地,第二位置包括位于外壳的远端处的位置。
优选地,外壳的远端被调适用于接收摄像机。
优选地,第二位置邻近所述远端以便递送流体至摄像机以便对摄像机进行清洗和/或冷却。
优选地,外壳包括用以允许流体离开外壳的多个开口组合。
优选地,外壳包括第一组高压喷射通道,所述通道横穿外壳的侧面以允许对钻孔的侧壁或包含在钻孔中的设备进行压力喷射。
优选地,外壳包括第二组前方喷射通道,所述通道横穿外壳的远端以允许对摄像机进行清洗和/或冷却。
优选地,外壳包括第三组高容量通道,所述通道横穿外壳以允许对钻孔进行冲洗。
优选地,当活塞位于第一位置处时允许流体经由高压喷射通道离开外壳,并且活塞阻挡流体流动经过前方喷射通道以及经过高容量通道。
优选地,当活塞位于第二位置处时允许流体经由前方喷射通道离开外壳,并且活塞阻挡流体流动经过高容量通道以及经过高压喷射通道。
根据权利要求11至13中任一项所述的勘测工具,其中当活塞位于第三位置处时允许流体经由高容量通道离开外壳,并且活塞阻挡流体流动经过前方喷射通道以及经过高压喷射通道。
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