[发明专利]用于监测和控制吸收制品转换加工生产线的系统和方法

权利要求书

1.一种用于制造吸收制品的方法，所述方法包括以下步骤：

提供线扫描相机(306)，所述线扫描相机包括像素数据线性阵列(308)并限定线性视场(310)；

提供分析器(304)，所述分析器选自由以下项组成的组：现场可编程门阵列、专用集成电路和图形处理单元；

布置所述线扫描相机(306)，使得所述线性视场(310)沿纵向延伸；

操作照明源(314)以限定照明所述线性视场(310)的照明场(316)；

提供基底(200)，所述基底包括第一表面(204)和相反的第二表面(206)，所述基底(200)还包括第一纵向侧边缘(208)和沿横向与所述第一纵向侧边缘(208)分开的第二纵向侧边缘(210)；

沿所述纵向推进所述基底(200)，使得所述第一纵向侧边缘(208)行进穿过所述线性视场(310)；

将来自所述像素数据线性阵列(308)的第一组像素灰度值从所述线扫描相机(306)传达给所述分析器(304)；以及

基于至少一个像素的所述灰度值来确定所述第一纵向侧边缘(208)的第一位置。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一纵向侧边缘(208)的所述第一位置与所述第一纵向侧边缘(208)相对于所述纵向的角取向对应。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一纵向侧边缘(208)的所述第一位置与相对于固定位置的横向位置对应。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，所述方法还包括用柱面透镜沿所述横向扩大所述线性视场(310)的步骤。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，所述方法还包括将所述第一纵向侧边缘(208)的第一位置与目标位置进行比较的步骤。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中使用光电探测器阵列来收集所述像素数据线性阵列(308)。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中沿所述纵向推进所述基底(200)的所述步骤还包括推进所述第一表面(204)的一部分穿过所述线性视场(310)，并且其中操作所述照明源的所述步骤还包括照明所述第一表面(204)和所述第二表面(206)中的一者的一部分。

8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，所述方法还包括如下步骤：在确定所述第一纵向侧边缘(206)的所述第一位置之后，重新定位所述第一纵向侧边缘(206)。

9.根据权利要求8所述的方法，其中重新定位所述第一纵向侧边缘(206)的所述步骤还包括改变所述第一纵向侧边缘(206)相对于所述纵向的角取向。

10.根据权利要求8所述的方法，其中重新定位所述第一纵向侧边缘(206)的所述步骤还包括沿所述横向移动所述基底(200)。

11.根据权利要求8所述的方法，所述方法还包括以下步骤：

将来自所述像素数据线性阵列(308)的第二组像素灰度值从所述线扫描相机(306)传达给所述分析器(304)；以及

基于至少一个像素的所述灰度值来确定所述第一纵向侧边缘(206)的第二位置。

12.根据权利要求11所述的方法，所述方法还包括基于所述第一位置和所述第二位置来计算所述基底(200)的速度的步骤。

13.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述基底(200)还包括离散部件(212)，所述离散部件包括第一侧向侧边缘(214)和第二侧向侧边缘(216)。

14.根据权利要求13所述的方法，所述方法还包括基于至少一个像素的所述灰度值来确定所述第一侧向侧边缘(214)的第一位置的步骤。

15.根据权利要求13所述的方法，其中所述第一侧向侧边缘(214)包括前缘，并且其中所述第二侧向侧边缘(216)包括后缘。