[发明专利]光刻设备和曝光方法有效
| 申请号： | 201580030769.0 | 申请日： | 2015-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN106462089B | 公开（公告）日： | 2018-05-29 |
| 发明（设计）人： | P·J·克拉默;R·吉利贾姆塞;N·拉默斯;D·M·斯洛特布姆 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 对准标记 多个目标 数学模型 拟合 图案转移 图案 笛卡尔坐标 标称位置 测量位置 方法描述 光刻设备 曝光 极坐标 衬底 测量 | ||
【权利要求书】：
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