[发明专利]用于处理含有唑系和唑类化合物的水的臭氧氧化方法

权利要求书

1.一种用于废水的化学处理系统，所述系统包括：

氧化模块，所述氧化模块接收作为输入的废水并且输出流出物；

其中所述氧化模块从所述输入的废水去除唑类化合物；并且

其中所述流出物具有大于百分之九十(90％)的唑类化合物的减少。

2.权利要求1所述的系统，其中所述废水接收自半导体制造过程。

3.权利要求2所述的系统，其中所述半导体制造过程包括化学机械抛光(CMP)。

4.权利要求1所述的系统，其中所述唑类化合物包括唑化合物和它们的衍生物，其包括苯并三唑、吡唑、4-甲基-1-H-苯并三唑、5-甲基-1-H-苯并三唑、咪唑、1，2，4 1H-三唑、3-氨基三唑、四唑、唑、噻唑、二唑、1，2，3-噻二唑。

5.权利要求1所述的系统，其中所述流出物具有大于百分之九十五(95％)的唑类化合物的减少。

6.权利要求1所述的系统，其中所述氧化模块接收作为另外的输入的臭氧气体。

7.权利要求1所述的系统，其中所述氧化模块是用于减少唑类化合物的唯一处理。

8.权利要求1所述的系统，其中所述废水可以包含固体和液体组分，并且其中所述氧化模块是用于减少唑类化合物的唯一处理。

9.权利要求1所述的系统，其中所述氧化模块去除具有化学需氧量(COD)的有机物质。

10.权利要求1所述的系统，其中通过所述氧化模块处理的废水包含过氧化氢(H2O2)。

11.权利要求1所述的系统，其中不需要所述铁处理或固液分离作为所述氧化模块的预处理。

12.权利要求1所述的系统，其中通过所述氧化模块处理的废水具有范围为2至8的pH。

13.一种用于废水的化学处理系统，所述系统包括：

氧化模块，所述氧化模块接收作为输入的：

接收自化学机械抛光过程的废水；和

接收自臭氧发生器的臭氧气体；

所述氧化模块输出流出物；

其中所述氧化模块从所述输入的废水去除唑类化合物；

其中所述流出物具有大于百分之九十(90％)的唑类化合物的减少；并且

其中所述氧化模块在处理之前不需要铁处理或固液分离。

14.权利要求13所述的系统，其中所述唑类化合物包括唑化合物和它们的衍生物，其包括苯并三唑、吡唑、4-甲基-1-H-苯并三唑、5-甲基-1-H-苯并三唑、咪唑、1，2，4 1H-三唑、3-氨基三唑、四唑、唑、噻唑、二唑、1，2，3-噻二唑。

15.权利要求13所述的系统，其中所述流出物具有大于百分之九十五(95％)的唑类化合物的减少。

16.权利要求13所述的系统，其中所述氧化模块是用于减少唑类化合物的唯一处理。

17.权利要求13所述的系统，其中所述废水可以包含固体和液体组分，并且其中所述氧化模块是用于减少唑类化合物的唯一处理。

18.权利要求13所述的系统，其中所述氧化模块去除具有化学需氧量(COD)的有机物质。

19.权利要求13所述的系统，其中通过所述氧化模块处理的废水包含过氧化氢(H2O2)。