[发明专利]光刻设备及器件制造方法有效
申请号: | 201580023034.5 | 申请日: | 2015-03-17 |
公开(公告)号: | CN106415395B | 公开(公告)日: | 2018-06-22 |
发明(设计)人: | G·A·H·F·詹森;M·范巴伦 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/67 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王静 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 所述空间 气体流 出口开口 入口开口 第二壁 第一壁 气体源 外部 光刻设备 热屏蔽件 热负载 衬底 配置 器件制造 热波动 热绝缘 流出 流动 | ||
【说明书】:
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