[发明专利]化合物、树脂、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜、图案形成方法、及化合物或树脂的纯化方法有效
| 申请号： | 201580013921.4 | 申请日： | 2015-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN106103396B | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 牧野岛高史;越后雅敏 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | C07C39/15 | 分类号： | C07C39/15;C07C37/72;C08G8/20;G03F7/11 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化合物 树脂 光刻 下层 形成 材料 图案 方法 纯化 | ||
【说明书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱瓦斯化学株式会社，未经三菱瓦斯化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201580013921.4/2.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：管路内净化装置及管路内净化系统
- 下一篇：有机半导体化合物
