[发明专利]印刷装置和印刷方法有效

专利信息
申请号: 201580012627.1 申请日: 2015-03-06
公开(公告)号: CN106068185B 公开(公告)日: 2018-02-06
发明(设计)人: 原山健次 申请(专利权)人: 株式会社御牧工程
主分类号: B41J2/01 分类号: B41J2/01;B05C5/00;B41J2/205
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 印刷 装置 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种印刷装置和印刷方法。

背景技术

以往,以喷墨方式进行印刷的喷墨打印机被广泛使用。喷墨打印机通过从喷墨头向介质(日语:メディア)喷出墨滴来进行印刷。另外,作为利用喷墨打印机进行印刷的方法,多遍印刷方式(多遍印刷记录)被广泛使用(例如参照引用文献1。)。在该情况下,多遍印刷方式例如是对介质上的各位置进行与多遍印刷对应的多次的主扫描动作的方式。

专利文献1:日本特开2011-224883号公报

发明内容

发明要解决的问题

在喷墨打印机中,在以多遍印刷方式进行印刷的情况下,在与各遍印刷对应的各次的主扫描动作中,从喷墨头对喷墨头在介质上经过的区域内的一部分像素喷出墨滴。另外,在该情况下,在各次的主扫描动作中要被喷出墨滴的像素例如基于预先设定的掩模数据(掩模)来决定。

因此,在以多遍印刷方式进行印刷的情况下,掩模数据的结构有时对印刷品质造成影响。更为具体地说,作为掩模数据,例如考虑使用使在各次的主扫描动作中被喷出墨滴的像素的排列为空间频率高的排列的掩模数据(高频掩模)。在使用了这种高频掩模的情况下,例如能够进行图像质量的颗粒感少的印刷。另外,成为也不易出现图案条纹的结构,该图案条纹是由于掩模数据的图案而产生的重复花纹。

但是,在喷墨打印机中,根据印刷的原理,有时墨滴着落于介质的着落位置发生偏离。而且,在使用高频掩模的情况下,对于着落位置的偏离的容许范围窄,在着落位置发生了偏离的情况下,存在容易产生交替条纹(光条纹)、掩模条纹这样的问题。在该情况下,交替条纹是指由于印刷结果的情形按印刷宽度的区域交替地发生变化而在介质上产生的条纹。另外,印刷宽度是指与进行主扫描动作的主扫描方向正交的副扫描方向上的印刷的宽度。另外,掩模条纹例如是指由于特定的空间频率的峰而产生的特定的条纹,该特定的空间频率的峰是由于掩模数据的图案与着落位置的偏离方式之间的关系而产生的。

另外,作为掩模数据,例如还考虑使用使在各次的主扫描动作中要被喷出墨滴的像素的排列为空间频率低的排列的掩模数据(低频掩模)。在使用这种低频掩模的情况下,对于墨滴的着落位置的偏离的容许范围变大,即使发生着落位置的偏离也不易产生掩模条纹等。但是,在该情况下,例如与使用高频掩模的情况相比会发生以下问题:容易产生图案条纹、在图像质量方面颗粒感变多等。

另外,作为掩模数据,还考虑使用空间频率既不靠高频侧也不靠低频侧而遍及整个频率范围地广泛分布的掩模数据(白噪声掩模)。如果设为这样,则在优点和缺点方面均能够获得高频掩模与低频掩模的中间特征。但是,在该情况下,无法完全获得高频掩模、低频掩模的优点,另一方面,各个掩模的问题点也依然被保留。

因此,对于以往在多遍印刷方式中使用的掩模数据期望一种更加适当的掩模数据的结构。因此,本发明的目的在于提供一种能够解决上述课题的印刷装置和印刷方法。

用于解决问题的方案

在喷墨打印机中,在以多遍印刷方式进行印刷的情况下,通常基于预先设定的作为多色阶的数据的多色阶数据(多色阶掩模图案数据)来生成在各遍印刷中使用的掩模数据。在该情况下,作为多色阶掩模图案数据,例如能够使用利用多色阶来表示与在主扫描方向和副扫描方向上排列的多个像素中的各个像素对应的值的数据。另外,例如通过利用预先设定的阈值对多色阶掩模图案数据进行二值化来生成在各遍印刷中使用的掩模数据。另外,其结果是,在各遍印刷中使用的掩模数据的空间频率特性成为与多色阶掩模图案数据的空间频率特性相应的特性。更为具体地说,例如在将空间频率特性为高频侧的数据用作多色阶掩模图案数据的情况下,在各遍印刷中使用的掩模数据的空间频率特性通常也为高频侧。另外,例如在将空间频率特性为低频侧的数据用作多色阶掩模图案数据的情况下,在各遍印刷中使用的掩模数据的空间频率特性通常也为低频侧。

与此相对地,本申请的发明人通过深入研究想到:不将与所有遍的印刷对应的掩模数据的空间频率特性设为相同或等同的特性,例如使与一部分的印刷对应的掩模数据的空间频率特性为低频侧的特性,使与其它的印刷对应的掩模数据的空间频率特性为高频侧的特性。另外,本申请的发明人通过进一步深入研究发现:通过首先执行使用低频侧的掩模数据的印刷,之后执行使用高频侧的掩模数据的印刷,例如能够获得与高频掩模及低频掩模中的各掩模的优点相同的优点,且能够适当地抑制各自的问题点。为了解决上述课题,本发明具有以下结构。

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