[发明专利]X射线发生器

权利要求书

1.一个X射线发生器，所述X射线发生器包括多个电子场致发射体；一个目标材料，用于在电子射入它时发射X射线光子；多个通电螺线管线圈，相邻于多个电子场致发射体；以及一个电能和定时电路，所述电能和定时电路用来提供电流给至少一个独立的电磁线圈；其中，当通电时，至少一个单独的电磁线圈被设置产生一个磁场，以引起在电子到达所述目标材料之前，从最接近于至少一个单独的通电螺线管线圈的发射器发射的电子路径散焦和/或偏转；并且其中所述目标材料包括一个间隙吸收区和一个X射线光子产生材料，所述间隙吸收区在电子撞击时不会产生高能X射线，所述X射线光子产生材料置于一个常规模式，这样在使用时，发射器发射的电子，在所述电子被单独的通电螺线管线圈偏转和/或散焦时，撞击X射线光子产生材料，并且在它们未被最接近于单独的通电螺线管线圈偏转和/或散焦时，撞击间隙吸收区；或者发射器发射的电子在它们被单独的通电螺线管线圈偏转和/或散焦时，撞击间隙吸收区，并且当它们未被最接近于发射体的单独的通电螺线管线圈偏转和/或散焦时，撞击X射线光子产生材料。

2.如权利要求1所述的X射线发生器，其特征在于，所述X射线光子产生材料的直径，与在二维模式的相邻X射线光子产生材料之间的距离之比约为1:100。

3.如权利要求1所述的X射线发生器，其特征在于，所述X射线光子产生材料相邻区域之间的距离约为1厘米。

4.如权利要求1所述的X射线发生器，其特征在于，每个单独的X射线光子产生材料目标是一个圆形，其直径约为100微米。

5.如权利要求1所述的X射线发生器，其特征在于，在目标材料中的所述X射线光子产生材料是钨。

6.如权利要求5所述的X射线发生器，其特征在于，所述钨的厚度范围为1微米到5微米。

7.如权利要求1所述的X射线发生器，其特征在于，在目标材料中所述间隙吸收区是硅。

8.如权利要求7所述的X射线发生器，其特征在于，硅的厚度范围为50微米到500微米。

9.如权利要求1所述的X射线发生器，其特征在于，目标材料包括一个X射线吸收材料的薄板，所述薄板吸收由电子撞击所述X射线光子产生材料产生的低能X射线光子，X射线吸收板置于目标材料的后表面。

10.如权利要求9所述的X射线发生器，其特征在于，所述X射线吸收材料包括厚度范围在0.1厘米到1厘米之间的铝。

11.如权利要求1所述的X射线发生器，其特征在于，多个通电螺线管线圈包括铜线圈，铜线圈通过电铸小铜片绕组制作。

12.如权利要求1所述的X射线发生器，其特征在于，有多个磁透镜，邻近于多个通电螺线管线圈，所述通电螺线管线圈用于产生场通量，所述磁透镜设置为在使用时，透镜将该场通量集中到发射体阵列的中心。

13.如权利要求1所述的X射线发生器，其特征在于，所述电能和定时电路设置为在使用时提供电流至光栅序列中的单个螺线管。

14.如权利要求13所述的X射线发生器，其特征在于，X射线发生器设置为使得相邻的电磁线圈彼此通电1毫秒到5毫秒。

15.如权利要求1所述的X射线发生器，其特征在于，所述电能和定时电路设置为同时为多个电磁线圈提供电流。

16.如权利要求15所述的X射线发生器，进一步包括一个输入控制装置，所述输入控制装置基于一个感兴趣区域的选择，提供电流至多个电磁线圈。

17.如权利要求15所述的X射线发生器，其特征在于，所述电能和定时电路设置为通过外部时钟信号同步，同时提供电流至多个电磁线圈。

18.如权利要求1所述的X射线发生器，其特征在于，每个电子发射体包括一个热释电晶体，用于在热循环时发射电子。

19.一种获取一个物体的X射线图像的方法，包括如权利要求1所述的提供X射线发生器的步骤；提供一个X射线探测器的步骤，和操作所述发生器，由此X射线光子穿过一个置于所述X射线源阵列和所述X射线探测器之间的物体的步骤。