[实用新型]一种适用于晶体硅组件的新型边框有效

专利信息
申请号: 201521109964.6 申请日: 2015-12-28
公开(公告)号: CN205232138U 公开(公告)日: 2016-05-11
发明(设计)人: 陈五奎;刘强;雷晓全;李社平;刘俊;韩珍;陈晓华 申请(专利权)人: 陕西拓日新能源科技有限公司
主分类号: H02S30/10 分类号: H02S30/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 710000 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 适用于 晶体 组件 新型 边框
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及太阳能组件装置改进技术领域,具体涉及一种用 于晶体硅组件的新型边框。

背景技术

晶体硅组件的边框不仅能够保护、支撑电池片封装件,也是太 阳能组件系统安装的必要配件。目前,市场上的晶体硅组件边框四周 为光面,边框角槽为5.2mm,不利于补胶。边框角槽底部为5.2mm, 为直筒型的角槽,需要补胶。光电建筑一体化中的组件边框为四面未 向外延伸,达不到组件与组件相扣,容易出现硅胶裂口,从而导致漏 水现象。

实用新型内容

为解决上述现有技术缺陷,本实用新型的目的在于提供一种适用 于晶体硅组件的新型边框,使其通过结构上的改进,不仅能够在装配 过程中减少二次补胶,而且能够克服在使用过程中遇到闪电时因组件 绝缘程度不够而出现闪电纹的现象。

为实现上述技术目的,本实用新型所采取的技术方案如下:

一种适用于晶体硅组件的新型边框,包括主体框架,所述主体框 架上端设有插接口,下端设有下边板,所述插接口包括上边框和下边 框,其特征在于:所述上边框的长度大于下边框的长度,且所述上边 框外端内侧与所述下边框外端内侧相互之间的水平间距为4.4-4.6mm, 所述下边框内侧配置有向下开设的凹槽,由上边框与主体框架连接处 到上边框端部为一段向下的弧线,弧线末端设置有下凸头,下边框的 末端与下边框的下表面连接处为一弧形连接,所述凹槽的上表面与下 边框的的下表面处于同一水平面,所述下边框的型材厚度为0.7mm, 主框架外表面设置有主体框架凹槽,下边板设置有下边板凹槽。

进一步地,优选的是,所述凹槽深度为0.6-0.8mm。

进一步地,优选的是,所述主体框架凹槽的形状为三角形,主体 框架凹槽宽度为0.4mm,深度为0.2mm。

进一步地,优选的是,所述下边板凹槽的形状为三角形,下边板 凹槽宽度为0.4mm,深度为0.2mm。

通过以上技术方案,本实用新型的有益效果如下:

1、上边框端部及下边板端部凸点的设计,使边框装配时同晶体 硅组件接触的四边可以作为摩擦线,如果需要打胶可以作为存胶槽, 有利于组件与组件之间的结合;

2、通过将上、下边框之间的水平间距由正常的5.2mm减少至 4.5mm,实现里大外小,能够有效地减少二次补胶;

3、在下边框的内侧配置处向里伸进去0.7mm,有助于EVA胶与 边框的结合,同时减少二次补胶对组件的转化效率等各方面的影响, 并增加组件绝缘程度,防止光伏电站并网发电后遇到闪电出现闪电 纹。

4、通过将边框中的一条边加宽,在光电建筑一体化应用上可以 减少组件与组件之间的打胶,并形成内扣,避免出现漏水现象。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图;

具体附图标记如下:

1-主体框架;101-空腔;2-插接口;201-上边框;202-下边框; 203-下凸头;204-凹槽;3-下边板;301-上凸头,102-主体框架凹槽, 303-下边板凹槽。

具体实施方式

本实用新型的具体实施方式:

一种适用于晶体硅组件的新型边框,包括主体框架1,主体框架 1上端设有插接口2,下端设有下边板3,其中,插接口2包括上边 框201和下边框202,其中,上边框201的长度大于下边框202的长 度,且上边框201外端内侧与下边框202外端内侧相互之间的水平间 距为4.4-4.6mm,下边框202内侧配置有向下开设的凹槽204,由上边 框201与主体框架1连接处到上边框端部为一段向下的弧线,弧线末 端设置有下凸头203,下边框202的末端与下边框201的下表面连接 处为一弧形连接,凹槽204的上表面与下边框的的下表面处于同一水 平面,下边框202的型材厚度为0.7mm,主体框架1外表面设置有主 体框架凹槽102,下边板3设置有下边板凹槽303。凹槽204深度为 0.6-0.8mm;主体框架凹槽102的形状为三角形,主体框架凹槽102 宽度为0.4mm,深度为0.2mm;下边板凹槽303的形状为三角形,下 边板凹槽303宽度为0.4mm,深度为0.2mm。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新 型的优点。本领域的技术人员应该了解本实用新型不受上述实施例的 限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在 不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化 和改进,这些变化和改进都落入要求保护的范围内。

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