[实用新型]真空镀膜机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空镀膜机，尤其是涉及一种电子溅射镀膜的真空镀膜机。

背景技术

真空镀膜机工作时：先抽真空，使真空室处于真空状态，再通过电子枪束流对真空室底部坩埚内的镀膜材料（简称膜料）加热；膜料在加热到一定的温度后，膜料分子会产生挥发，挥发出的膜料分子沉积在真空室顶部的产品表面形成薄膜。通常，膜料分子分子是向坩埚四周扩散，真空室内壁及底板上的衬板会覆盖上膜料，这既造成了膜料分子的浪费，又增加了清洁坩埚的工作量。正常情况下，生产两天就需要将坩埚内壁设置的衬板进行清洁，一次清洁需要半天时间而且工作量大，浪费时间，影响工作生产。

发明内容

为了克服上述问题，本实用新型提供一种膜料对衬板的污染少，从而降低设备清洁维护时间的真空镀膜机。

本实用新型的技术方案是提供一种真空镀膜机，其包括一真空室，所述真空室内设置一用于承载产品的承载支架以及一镀膜用的电子枪，所述承载支架和电子枪之间设置一镀膜材料，其特征在于：包括一中空的防污罩，所述镀膜材料设置在所述防污罩中。

优选的，所述防污罩中开设有贯穿的通孔，所述通孔一端朝向所述电子枪，所述通孔的另一端朝向所述承载支架，朝向所述承载支架的所述通孔一端的直径大于所述通孔另一端的直径。

优选的，所述防污罩为两端开口的喇叭形结构。

优选的，所述通孔为锥形圆台形。

优选的，所述防污罩的高度为100～300毫米。

优选的，所述承载支架为伞形结构，所述承载支架的伞面上设置多个贯穿的圆孔，产品设置在所述圆孔中。

优选的，所述承载支架的伞形内侧朝向所述电子枪。

本实用新型的真空镀膜机在电子枪前加装一个防污罩，挡住向坩埚周围挥发的膜料分子，使真空室衬板保持清洁，在防污罩脏污后更换一个防污罩继续生产，节省了清洁衬板的时间。

附图说明

图1是本实用新型最佳实施例的一种真空镀膜机的结构示意图；

图2是防污罩的立体结构示意图。

具体实施方式

下面对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的描述。

如图1和图2所示，本实用新型提供一种真空镀膜机，其包括一真空室10，真空室10内衬坩埚（未图示）或衬板（未图示）。真空室10内设置一用于承载产品的承载支架14以及一镀膜用的电子枪12，承载支架14和电子枪12之间设置一镀膜材料（未图示）。为了避免镀膜材料挥发时污染真空室10的内壁，增加一中空的防污罩18，镀膜材料设置在防污罩18中。

防污罩18中开设有贯穿的通孔20，通孔20一端朝向电子枪12，通孔20的另一端朝向承载支架14，朝向承载支架14的通孔20一端的直径大于通孔20另一端的直径。

实施例1，防污罩18为两端开口的喇叭形结构。

实施例2，通孔20为锥形圆台形。

上述2种结构，都可以有效引导挥发的镀膜材料分子朝向承载支架14移动，而非四散，从而造成浪费，并污染真空室10的内壁。

进一步地，防污罩18由不锈钢材料制成，其高度为100～300毫米。

进一步地，承载支架14为伞形结构，承载支架14的伞面上设置多个贯穿的圆孔16，产品（未图示）设置在圆孔16中。承载支架14的伞形内侧朝向电子枪12。

以上实施例仅为本实用新型其中的一种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。