[实用新型]一种等离子体刻蚀设备

权利要求书

1.一种等离子体刻蚀设备,用于对基片进行等离子体刻蚀，至少包括：承载复数个基片的载盘、放置复数个载盘的第一腔体、传送所述载盘的第二腔体、以及刻蚀所述基片的第三腔体，所述第一腔体、第二腔体和第三腔体分别通过自由开关的隔板连接，通过控制所述隔板开关状态，实现所述第一腔体、第二腔体和第三腔体的连通或隔离；所述第二腔体内设置有传送装置，用于在第一腔体和第三腔体之间传送所述载盘；第一腔体为非真空腔体、第三腔体为真空腔体、而第二腔体在真空腔体和非真空腔体之间切换；其特征在于：所述第二腔体内于所述载盘上方还设置一遮罩装置，当所述遮罩装置罩于所述载盘上时，保护所述载盘上的基片免受污染。

2.根据权利要求1所述的一种等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述遮罩装置包括一驱动机构、一伸缩连杆、一遮罩，所述驱动机构和遮罩连接于所述伸缩连杆的两端，所述驱动机构通过所述伸缩连杆驱动所述遮罩的升降。

3.根据权利要求2所述的一种等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述遮罩包括遮板和沿所述遮板周边向下延伸的侧板。

4.根据权利要求3所述的一种等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述侧板上具有复数个供气体进出以平衡所述遮罩内外压强的筛孔。

5.根据权利要求4所述的一种等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述筛孔均匀分布或者不均匀分布。

6.根据权利要求2所述的一种等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述遮罩的大小与所述载盘匹配。

7.根据权利要求1所述的一种等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述第二腔体内具有供气体进出的进气孔和出气孔。

8.根据权利要求7所述的一种等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述进气孔远离所述载盘位置，并且所述进气孔上方具有栅网。

9.根据权利要求1所述的一种等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述第一腔体内设置复数个用于放置所述载盘的载盘架。

10.根据权利要求1所述的一种等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述传送装置为机械手。