[实用新型]一种晶体生长用坩埚有效

专利信息
申请号: 201521097632.0 申请日: 2015-12-24
公开(公告)号: CN205241850U 公开(公告)日: 2016-05-18
发明(设计)人: 李涛;柳井忠;黄小卫;柳祝平 申请(专利权)人: 石河子市鑫磊光电科技有限公司
主分类号: C30B15/10 分类号: C30B15/10;C30B29/20
代理公司: 北京中恒高博知识产权代理有限公司 11249 代理人: 刘洪京
地址: 832000 新疆维吾尔自*** 国省代码: 新疆;65
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摘要:
搜索关键词: 一种 晶体生长 坩埚
【权利要求书】:

1.一种晶体生长用坩埚,包括埚体,其特征在于:在埚口外侧,设置有埚口环套,所述埚口环套对所述埚口进行约束。

2.根据权利要求1所述的一种晶体生长用坩埚,其特征在于:在所述埚口外侧,设置有台阶,所述埚口环套设置在所述台阶上。

3.根据权利要求2所述的一种晶体生长用坩埚,其特征在于:所述台阶高3-5mm,宽1.5-2mm。

4.根据权利要求1所述的一种晶体生长用坩埚,其特征在于:所述环套截面直径为5-8mm。

5.根据权利要求1所述的一种晶体生长用坩埚,其特征在于:所述埚体内壁具有斜度,斜度范围为1°-2°。

6.根据权利要求1所述的一种晶体生长用坩埚,其特征在于:所述埚体外径为300-500mm,内径为280-470mm,坩埚底厚度为25-50mm。

7.根据权利要求6所述的一种晶体生长用坩埚,其特征在于:所述埚体的埚底与埚壁之间设置有圆角,内圆角半径为80-110mm,外圆角半径为100-150mm。

8.根据权利要求1所述的一种晶体生长用坩埚,其特征在于:所述埚体内壁光洁度为0.8-3.2,所述埚体外壁光洁度为6.2,内底光洁度为1.3-1.6。

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