[实用新型]一种真空下高精度旋转定位装置有效

专利信息
申请号: 201521086234.9 申请日: 2015-12-24
公开(公告)号: CN205280210U 公开(公告)日: 2016-06-01
发明(设计)人: 陈海东;史学舜;刘长明;刘玉龙;赵坤 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十一研究所
主分类号: G01J1/00 分类号: G01J1/00
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 孙营营
地址: 266555 山东省*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 真空 高精度 旋转 定位 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及测试技术领域,特别涉及一种真空下高精度旋转定位装置。

背景技术

光辐射校准在光辐射测量、空间遥感、气候监测和通讯等领域发挥基础性、 关键性的作用。低温辐射计以电替代原理,融合真空、低温和超导技术,是目前 光辐射校准精度最高的计量标准,其测量精度优于10-5数量级。

传统的低温辐射计测量中为了消除腔体外部杂散光干扰,提高光辐射校准精 度,低温辐射计光辐射入射窗口选择布鲁斯特窗口,但在每次校准探测器的测量 前后都要测量和修正窗口透过率。窗口复位过程中,角度和光斑落点位置都难以 保证与光辐射校准测量时完全一致,并且从紫外到中红外每个波段的窗口布鲁斯 特角都需要进行调节,调节难度大、精度差,导致在标准传递过程中,窗口透过 率成为影响标准传递过程测量不确定度的主要来源。

为了避免上述布鲁斯特窗口对测量不确定度的影响,现有方案在低温辐射计 与窗口之间加装一真空仓,真空仓与低温辐射计直接相连,待校准探测器装载在 仓内直线导轨上,从而与低温辐射计处于同一高真空环境中,测量时,光辐射先 透过布鲁斯特窗口,分别进入低温辐射计和探测器测量,从而避免了窗口透过率 对测量不确定度的影响。

现有技术方案中,有以下不足:

(1)真空仓内置直线导轨,行程长,导致真空仓尺寸空间大,抽真空耗时 时间长,实验周期时间长;

(2)直线导轨上装载探测器数量有限,一般为3只,如果待校准探测器数 量多,不能一次装载测量,再次装载需要将仓内真空放掉,重新装载、抽真空, 耗时费力,测量效率低;

(3)真空仓内装载探测器的直线导轨行程长,重复定位误差大,导致测量 不确定度增大。

实用新型内容

为解决现有技术中的不足,本实用新型提出一种真空下高精度旋转定位装 置。

本实用新型的技术方案是这样实现的:

一种真空下的高精度旋转定位装置,包括:真空仓、圆形导轨、圆光栅编码 器以及探测器支架、连轴器、驱动器;

在光路的直线方向上,低温辐射计与布鲁斯特窗口之间的真空仓近光源一面 开布鲁斯特窗,另一面直接与低温辐射计相连;真空仓内置立式圆形导轨,在圆 形导轨上置多只探测器支架以固定待校准探测器,使探测器与低温辐射计处于同 一高真空环境中;真空仓外,圆形导轨通过连轴器与高精度圆光栅编码器相连, 计算机控制圆光栅编码器驱动圆形导轨旋转,依旋转角度将固定在圆形导轨上的 待校准探测器切入光路进行测量。

可选地,所述真空仓,在光路的直线方向上一面开布鲁斯特窗,相对面开真 空口,通过真空连接件与低温辐射计直接相连;中部开圆孔,伸出圆形导轨的中 轴,真空仓内对该圆导轨支撑;侧面与分子泵和离子泵真空机组连接,对真空仓 及低温辐射计腔体抽真空;真空仓上部设置活动盖板,以便于探测器安装。

可选地,所述圆形导轨上置多个探测器支架,支架上装有微调螺钉和固定螺 钉,用于对探测器进行调整和固定;整个圆形导轨作真空处理后安装在真空仓内 的支撑架上,光路穿过圆形导轨的轨道面,通过旋转将圆形导轨装载的探测器依 次切入光路;圆形导轨中轴通过真空仓的中间开孔伸出仓外,通过连轴器与圆光 栅编码器连接。

可选地,所述圆光栅编码器是动力机构,通过连轴器带动仓内圆形导轨旋转, 将固定在圆形导轨上的待校准探测器切入光路进行测量。

可选地,所述探测器支架置于圆形导轨上,上面设置微调螺钉和固定螺钉, 用于调整和固定探测器。

可选地,所述圆形导轨加置十字型加强筋,以增强圆形导轨在真空环境下的 机械强度。

可选地,所述连轴器将仓外的圆光栅编码器与仓内的圆形导轨相连;真空连 接件密封真空仓、连接真空仓与低温辐射计、连接真空仓与真空机组。

本实用新型的有益效果是:

(1)在真空仓内置立式圆形导轨,在圆形导轨上装夹多个待校准探测器, 立式圆导轨的设计一方面拓展了同时测量的待校准探测器数量,提高了测量效 率;另一方面提高了真空仓内的空间利用,大大减小了真空仓的体积,减少了抽 真空所需时间,缩短实验周期,提高实验效率,节约实验成本;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第四十一研究所,未经中国电子科技集团公司第四十一研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201521086234.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top