[实用新型]一种用于马达转子加工设备的无接触旋转机构有效

专利信息
申请号: 201521069055.4 申请日: 2015-12-22
公开(公告)号: CN205231965U 公开(公告)日: 2016-05-11
发明(设计)人: 冉瑞江;李洪欽 申请(专利权)人: 深圳市巨峰机电设备有限公司
主分类号: H02K15/02 分类号: H02K15/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 马达 转子 加工 设备 接触 旋转 机构
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及马达转子加工设备技术领域,尤其涉及一种用于马达转子 加工设备的无接触旋转机构。

背景技术

现有技术下旋转工作台上的旋转工位大多通过底部设置专门的驱动电机进 行驱动,因此存在噪音大,旋转负载大,驱动电机安装复杂等诸多问题。

实用新型内容

本实用新型提供了一种噪音小,方便驱动电机安装的无接触旋转机构。

为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:

一种用于马达转子加工设备的无接触旋转机构,包括旋转工作台、圆周均 布于所述旋转工作台边缘处的工件旋转座、以及驱动所述工件旋转座旋转的驱 动电机,所述工件旋转座的底部设置有和工件旋转座的旋转轴相连接的第一旋 转体;所述第一旋转体正下方的驱动电机的旋转轴上设置有第二旋转体,所述 第一旋转体和第二旋转体平行间隔设置,且所述第一旋转体和第二旋转体的相 对面分别上下对应埋设有相互吸引的第一磁体和第二磁体。

其中,所述第一磁体圆周均布于所述第一旋转体的下底面,且所述第一磁 体的外露端与所述第一旋转体的下底面平齐。

其中,所述第二磁体圆周均布于所述第二旋转体的上表面,且所述第二磁 体的外露端与所述第一旋转体的上表面平齐。

其中,所述第一磁体和第二磁体分别设置为圆形磁铁,且所述第一磁体和 第二磁体的N极和S极相对设置。

本实用新型的有益效果:本实用新型包括旋转工作台、圆周均布于所述旋 转工作台边缘处的工件旋转座、以及驱动所述工件旋转座旋转的驱动电机,所 述工件旋转座的底部设置有和工件旋转座的旋转轴相连接的第一旋转体;所述 第一旋转体正下方的驱动电机的旋转轴上设置有第二旋转体,所述第一旋转体 和第二旋转体平行间隔设置,且所述第一旋转体和第二旋转体的相对面分别上 下对应埋设有相互吸引的第一磁体和第二磁体。此结构设计,能够通过设置在 第二旋转体上的第二磁体驱动第一旋转体,从而使得第一旋转体与第二旋转体 之间产生无接触旋转,本实用新型噪音小,便于驱动电机的安装。

附图说明

图1是本实用新型一种用于马达转子加工设备的无接触旋转机构的轴测图。

具体实施方式

下面结合附图所示并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方 案。

如图1所示,一种用于马达转子加工设备的无接触旋转机构,包括旋转工 作台1、圆周均布于所述旋转工作台1边缘处的工件旋转座2、以及驱动所述工 件旋转座2旋转的驱动电机3,所述工件旋转座2的底部设置有和工件旋转座2 的旋转轴相连接的第一旋转体21;所述第一旋转体21正下方的驱动电机3的旋 转轴上设置有第二旋转体31,所述第一旋转体21和第二旋转体31平行间隔设 置,且所述第一旋转体21和第二旋转体31的相对面分别上下对应埋设有相互 吸引的第一磁体和第二磁体。

进一步优选的,所述第一磁体圆周均布于所述第一旋转体21的下底面,且 所述第一磁体的外露端与所述第一旋转体21的下底面平齐,所述第二磁体圆周 均布于所述第二旋转体31的上表面,且所述第二磁体的外露端与所述第一旋转 体21的上表面平齐,所述第一磁体和第二磁体分别设置为圆形磁铁,且所述第 一磁体和第二磁体的N极和S极相对设置。

上述结构设计,通过驱动电机3驱动第二旋转体31高速旋转,进而带动与 第二旋转体31间隔设置且相互吸引的第一旋转体21高速旋转,从而减少了旋 转摩擦,降低了旋转噪音,且方便驱动电机3的安装。

以上结合具体实施例描述了本实用新型的技术原理。这些描述只是为了解 释本实用新型的原理,而不能以任何方式解释为对本实用新型保护范围的限制。 基于此处的解释,本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本实 用新型的其它具体实施方式,这些方式都将落入本实用新型的保护范围之内。

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