[实用新型]一种硅片固定夹具有效
| 申请号: | 201521038992.3 | 申请日: | 2015-12-14 |
| 公开(公告)号: | CN205382208U | 公开(公告)日: | 2016-07-13 |
| 发明(设计)人: | 史公彬;金重玄 | 申请(专利权)人: | 杭州大和热磁电子有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;H01L21/687 |
| 代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人: | 尉伟敏;方琦 |
| 地址: | 310053 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 硅片 固定 夹具 | ||
技术领域
本实用新型涉及到一种硅片镀膜技术领域,尤其涉及到一种能提高硅片镀膜质量的硅片固定夹具。
背景技术
目前太阳能电池片制造中PECVD管式镀膜工序,硅片插入石墨舟内,石墨舟在左右及底部各有一个卡钉将硅片固定,卡钉位置如图1所示,硅片与石墨舟接触良好,导电较好,但是硅片顶边及一个侧边的上部则由于需要为硅片留下插入通道而不能设置卡钉,在镀膜炉内的高温作用下容易导致硅片弯曲变形,硅片上部与石墨舟片之间的距离发生变化,影响硅片与石墨舟之间的导电性,硅片之间距离不同,也会影响电场强度,从而影响镀膜效果,降低硅片质量。
实用新型内容
本实用新型主要解决现有石墨舟内硅片顶部无法设置卡钉而容易造成硅片弯曲变形、影响镀膜效果的技术问题;提供了一种能提高硅片镀膜质量的硅片固定夹具显著。
为了解决上述存在的技术问题,本实用新型主要是采用下述技术方案:
本实用新型的一种硅片固定夹具,用于太阳能电池PECVD镀膜石墨舟内的硅片夹持,所述固定夹具包括横挡,所述横挡上设有若干方向相同且分布均匀的夹杆组,所述夹杆组分别对应所述石墨舟内装载的多件硅片,夹杆组包括两根夹杆,所述夹杆间距与硅片厚度相吻合且插入硅片中,夹杆长度和石墨舟与硅片上端的距离相吻合,在硅片顶端设置固定硅片的夹具,通过夹具内的夹杆分别夹持相应硅片,使硅片四周均有固定点,硅片上部在高温镀膜时就不会弯曲变形,同时,硅片与石墨舟的距离也保持一致,减少硅片内的各个位置的导电差异,使PECVD镀膜均匀性得到有效提升。
作为优选,所述夹杆组与所述横挡一体结构且垂直于横挡。
作为优选,所述横挡轴向截面呈长方形或正方形,所述夹杆轴向截面呈长方形或正方形,便于夹具的制作和装配,也便于夹具在硅片上的固定。
作为优选,所述夹杆前端部的纵向截面呈三角状,其斜面对应并触靠硅片边缘,三角形斜面与硅片接触面积少,为点接触,不会影响硅片的镀膜效果。
作为优选,所述固定夹具的材料为陶瓷材料,固定夹具使用时,硅片之间不会导电,也不影响石墨舟的放电。
本实用新型的有益效果是:在石墨舟内装载的硅片顶端设置固定硅片的夹具,通过夹具内的夹杆分别夹持相应硅片,使硅片四周均有固定点,硅片上部在高温镀膜时就不会弯曲变形,同时,硅片与石墨舟的距离也保持一致,减少硅片内的各个位置的导电差异,使PECVD镀膜均匀性得到有效提升。
附图说明
图1是现有技术的硅片固定示意图。
图2是本实用新型的一种硅片固定夹具结构示意图。
图3是采用本实用新型的硅片固定结构示意图。
图4是采用本实用新型的硅片固定结构俯视图
图中1.石墨舟,2.硅片,3.固定夹具,31.横挡,32.夹杆组,321.夹杆,33.夹杆间距,4.卡钉。
具体实施方式
下面通过实施例,并结合附图,对本实用新型的技术方案作进一步具体的说明。
实施例:本实施例的一种硅片固定夹具,用于太阳能电池PECVD镀膜石墨舟1内的硅片2夹持,如图2所示,固定夹具3的材料为陶瓷材料,固定夹具包括横挡31,横挡轴向截面呈长方形,横挡上设有若干方向相同且分布均匀的夹杆组32,夹杆组与横挡一体结构且垂直于横挡,夹杆组分别对应石墨舟内装载的多件硅片,夹杆组包括两根夹杆321,夹杆间距33与硅片厚度相吻合且插入硅片中,夹杆长度和石墨舟与硅片上端的距离相吻合,夹杆轴向截面呈长方形,夹杆前端部的纵向截面呈三角状,其斜面对应并触靠硅片边缘。
使用时,如图3和图4所示,将硅片分别插入石墨舟内,硅片左右和底部的卡钉4固定硅片,然后,将固定夹具插入硅片上部,使夹杆端部的斜面压靠在硅片上端,使硅片上端也得到固定,完成整个装载硅片在石墨舟内的装载。
在本实用新型的描述中,技术术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“纵”、“横”、“内”、“外”等表示方向或位置关系是基于附图所示的方向或位置关系,仅是为了便于描述和理解本实用新型的技术方案,以上说明并非对本实用新型作了限制,本实用新型也不仅限于上述说明的举例,本技术领域的普通技术人员在本实用新型的实质范围内所做出的变化、改型、增添或替换,都应视为本实用新型的保护范围。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





