[实用新型]电路板的钻靶设备有效
申请号: | 201521008710.5 | 申请日: | 2015-12-08 |
公开(公告)号: | CN205213162U | 公开(公告)日: | 2016-05-04 |
发明(设计)人: | 游丞德 | 申请(专利权)人: | 得力富企业股份有限公司 |
主分类号: | H05K3/46 | 分类号: | H05K3/46;B23B41/00 |
代理公司: | 北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙) 11276 | 代理人: | 刘云贵;王东 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电路板 设备 | ||
1.一种电路板的钻靶设备,其特征在于,包含:
平台,固定有电路板,该电路板具有相互堆栈的多个基板,且具有靶标 结构,该靶标结构具有:
多个基准点,分别设置于各该基板,当上述基板相互堆栈时,上述基准 点相互靠近;及
多个定位部,其数量与上述基板的数量相同,一个定位部设置于一个基 板,位于同一基板的定位部与基准点间具有间距,且由上述基板的板面观看 时,上述定位部彼此不重迭;
摄影机,设置在该平台,拍摄该靶标结构;
计算处理部,连接于该摄影机,分析所拍摄的靶标结构的图像来决定该 电路板的至少一个钻靶位置;
储存部,连接于该计算处理部,至少储存所拍摄的靶标结构的图像、该 计算处理部所分析的结果及所决定的钻靶位置中任一者;及
钻靶单元,设置在该平台,对该计算处理部所决定的钻靶位置进行钻靶。
2.如权利要求1所述的钻靶设备,其特征在于,该储存部储存所拍摄 的靶标结构的图像、该计算处理部所分析的结果及所决定的钻靶位置。
3.如权利要求2所述的钻靶设备,其特征在于,该钻靶位置靠近上述 基准点。
4.如权利要求1所述的钻靶设备,其特征在于,该钻靶位置靠近上述 基准点。
5.如权利要求1至4中任一项所述的钻靶设备,其特征在于,由上述 基板的板面观看时,上述定位部以上述基准点为中心均匀地分散。
6.如权利要求5所述的钻靶设备,其特征在于,上述基板的各该间距 的距离相似。
7.如权利要求5所述的钻靶设备,其特征在于,由上述基板的板面观 看时,上述定位部以环状排列的方式包围上述基准点。
8.如权利要求1至4中任一项所述的钻靶设备,其特征在于,上述基 板的各该间距的距离相似。
9.如权利要求8所述的钻靶设备,其特征在于,由上述基板的板面观 看时,上述定位部以环状排列的方式包围上述基准点。
10.如权利要求1至4中任一项所述的钻靶设备,其特征在于,由上述 基板的板面观看时,上述定位部以环状排列的方式包围上述基准点。
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