[实用新型]一种用于原位晶化合成NaY分子筛的设备有效
申请号: | 201520983481.2 | 申请日: | 2015-12-02 |
公开(公告)号: | CN205151787U | 公开(公告)日: | 2016-04-13 |
发明(设计)人: | 于心玉;石文记;郭万里;魏胜华 | 申请(专利权)人: | 山东多友科技有限公司 |
主分类号: | C01B39/24 | 分类号: | C01B39/24 |
代理公司: | 济南智圆行方专利代理事务所(普通合伙企业) 37231 | 代理人: | 刘尔才 |
地址: | 274700 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 原位 化合 nay 分子筛 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种回转炉,尤其涉及一种用于原位晶化合成NaY分子筛的设备。
背景技术
NaY分子筛能作为优良的重油催化炼化催化剂,高岭土颗粒原位晶化是生产NaY分子筛的重要步骤。目前的高岭土原位晶化设备通常采用回转炉。回转炉是一种煅烧、焙烧或干燥粒状及粉状物料的热工设备,主要用于水泥工业中煅烧水泥熟料,也用于耐火材料及陶瓷工业煅烧粒状及粉状物料和在上述工业中干燥各种原料。目前的回转炉生产基本为炉体缓慢旋转,物料由较高的尾端加入,由较低的炉头端卸出。炉头端喷入燃料(煤粉、重油或气体燃料),在炉内燃烧,烟气由较高一端排出。这种回转炉生产方式有一个较为明显的缺点,就是两端的温度不太均匀,而且内部温度控制较为不易,甚至经常会发生头端温度过高烧坏物料现象。而用于重油催化炼化催化剂原料的高岭土原位晶化焙烧温度要求较为严格。
实用新型内容
本实用新型是针对现有技术所存在的不足,而提供了一种结构简单、设计合理,高岭土焙烧期间,即在焙烧室运行期间,无论每一个运行点需要的温度相同或不同,焙烧温度均能控制在需要的合适温度的一种用于原位晶化合成NaY分子筛的设备。
为了实现上述目的,本实用新型提供了一种用于原位晶化合成NaY分子筛的设备,包括能够回转运动的焙烧室,所述焙烧室外侧设置有封闭的供热室,所述供热室上侧与所述焙烧室之间的间隙小于所述供热室下侧与所述焙烧室之间的间隙,所述供热室内部下侧设置有均匀分布的电热装置,所述供热室下侧内部还设置有用于托举所述焙烧室的滚轮,所述滚轮成对设置,分别托举所述焙烧室重心线的两侧。
其中,所述焙烧室包括端段与中段,所述端段与中段连接处分别设置为齿形,所述端段与中段的齿形之间设置有绝热材料。
所述供热室两端设置有收缩段,所述焙烧室端段与中段的连接处位于所述供热室的收缩段。
生产中,一般不需要所有的电热装置全开,如果需要的温度较高,就多打开一些电热装置;如果需要的温度较低,就少打开一些电热装置,而且也可以通过减少每个电热装置的供电来降低温度。
本方案的有益效果可根据对上述方案的叙述得知,结构简单,设计合理,能够有效控制焙烧室从头到尾每一段的温度,因而在高岭土焙烧期间,即在焙烧室运行期间,无论每一个运行点需要的温度相同或不同,焙烧温度均能控制在需要的合适温度。电热装置只设置在供热室的下侧,一是利于设备安装维护,二是物料一般都集中在焙烧室下侧。成对设置滚轮,能够有效控制焙烧室中段的弯曲度。焙烧室包括端段与中段连接处分别设置为齿形,端段与中段的齿形之间设置有绝热材料,能够避免中段的高温传递到端部,一是避免浪费能源,二是提高生产安全。供热室两端设置有收缩段,焙烧室端段与中段的连接处位于供热室的收缩段,也是为了避免高温传递到供热室以外。
附图说明
图1为本实用新型具体实施方式的结构示意图;
图中,1、焙烧室;2、供热室;3、电热装置;4、滚轮;5、端段;6、中段;7、收缩段。
具体实施方式
为能清楚说明本方案的技术特点,下面通过具体实施方式,对本方案进行阐述。
如图1所示,本实施例是一种用于原位晶化合成NaY分子筛的设备,包括能够回转运动的焙烧室1,焙烧室1外侧设置有封闭的供热室2,供热室2上侧与焙烧室1之间的间隙小于供热室2下侧与焙烧室1之间的间隙,供热室2内部下侧设置有均匀分布的电热装置3,供热室2下侧内部还设置有用于托举焙烧室的滚轮4,滚轮4成对设置,分别托举焙烧室1重心线的两侧。焙烧室1包括端段5与中段6,端段5与中段6连接处分别设置为齿形,端段5与中段6的齿形之间设置有绝热材料。供热室2两端设置有收缩段7,焙烧室1端段5与中段6的连接处位于供热室2的收缩段7。
生产中,一般不需要所有的电热装置3全开,如果需要的温度较高,就多打开一些电热装置3;如果需要的温度较低,就少打开一些电热装置3,而且也可以通过减少每个电热装置3的供电来降低温度。
本实用新型未经描述的技术特征能够通过或采用现有技术实现,在此不再赘述,当然,上述说明并非是对本实用新型的限制,本实用新型也并不仅限于上述举例,本技术领域的普通技术人员在本实用新型的实质范围内所做出的变化、改型、添加或替换,也应属于本实用新型的保护范围。
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