[实用新型]新型拇外翻矫形器有效

专利信息
申请号: 201520959816.7 申请日: 2015-11-27
公开(公告)号: CN205198230U 公开(公告)日: 2016-05-04
发明(设计)人: 张恩铭;孙超 申请(专利权)人: 张恩铭;孙超
主分类号: A61F5/10 分类号: A61F5/10
代理公司: 北京市卓华知识产权代理有限公司 11299 代理人: 蔡勤增
地址: 100084 北京市海淀区*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 新型 外翻 矫形
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种新型拇外翻矫形器,属康复工程学领域。

背景技术

传统的拇外翻矫形器是利用对足拇指牵摆的力,从而达到矫正拇外翻畸形的效果。采用这种方式的矫形器矫形力单一,不能改善行走姿势,因此当脱掉矫形器的一段时间后足趾外翻畸形会再次发生甚至加重,对患者造成严重的困扰。

发明内容

为了解决现有技术存在的问题,本实用新型的目的在于提供一种新型拇外翻矫形器,通过设置足弓垫和固定带使矫形力的分布更加合理,并且使矫形器在矫形的同时能够塑造完美足型。

本实用新型的技术方案是:

一种新型拇外翻矫形器,包括足拇指套和与所述足拇指套相连接的第一绑带、第二绑带,所述足拇指套内设有固定带,所述固定带的数量为两条,分别位于足拇指的足趾背侧和跖侧。

优选的,所述固定带的长度相等,所述固定带的材料为医用弹性材料。

优选的,所述拇外翻矫形器还包括有足弓垫,所述足弓垫前部与所述固定带固定连接,后部与所述第一绑带固定连接。

优选的,所述足弓垫的大小按照足型和扁平足程度确定,包括各部位涉及的长、宽、高等。

优选的,所述足弓垫的长度等于中足长,宽度等于三分之二中足长,所述足弓垫的最大高度小于1cm。

优选的,所述足弓垫的材料为硅胶。

优选的,所述足拇指套与所述第一绑带、第二绑带的连接方式为粘接。

优选的,所述第一绑带、第二绑带的材料为医用弹力布。

优选的,所述第一绑带、第二绑带的两端分别设有挂钩和环套。

优选的,所述足拇指套内还粘设有足拇指护垫。

本实用新型的有益效果为:

本实用新型结构简单、佩戴舒适,能够有效的治疗拇外翻,缓解患者的疼痛感,且能够在行走时穿戴,相比于传统拇外翻矫形器适用范围更广;足弓垫的设置可以有效地分散患者在行进过程中的足底压力,从而帮助恢复足弓的弹性架构,塑造完美足型,缓解足拇指内侧着地时所受外切力,特别是对扁平足的人群具有良好的治疗效果;增加的两条牵拉固定带使足拇指仅在水平方向上接受矫正的力,从而减少牵拉力在其它各个方向上的损失,保证了治疗效果。

附图说明

图1是本实用新型的结构原理图;

图2是本实用新型使用方法简图;

图3是本实用新型足弓垫结构简图;

图4是本实用新型足弓垫内侧面简图;

图5是本实用新型足弓垫外侧面简图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做进一步说明。

参见图1至5,本实用新型公开了一种新型拇外翻矫形器,包括足拇指套1和与所述足拇指套相连接的第一绑带5、第二绑带4,所述足拇指套内设有固定带2,所述固定带的数量为两条,分别位于足拇指的足趾背侧和跖侧。所述固定带的设置保证了足拇指仅在水平方向上接受矫正的力,从而减少牵拉力在其它各个方向上的损失,保证了治疗效果。

所述固定带的长度相等,所述固定带的材料为医用弹性材料。相等的长度和相同的材料制作的固定带能够保证足拇指两侧受力后固定带变形的一致性,使足拇指保持在较好的治疗状态;所述医用弹性材料可以为现有技术下任意合适材料,保证在与足拇指接触时的舒适性与安全性。

所述拇外翻矫形器还包括有足弓垫3,所述足弓垫前部与所述固定带固定连接,后部与所述第一绑带固定连接。所述足弓垫可以有效地分散患者在行进过程中的足底压力,从而帮助恢复足弓的弹性架构,塑造完美足型,同时可以缓解足拇指内侧着地时所受外切力,减轻患者走路时的痛苦,特别对偏平足的治疗具有良好的效果。

所述足弓垫的长度等于中足长,宽度等于三分之二中足长。所述足弓垫可以根据不同人脚的大小设置不同的型号,以便保证使用的舒适性和治疗效果。

所述足弓垫的最大高度小于1cm。依据人体足弓的形状科学设置足弓垫的高度,使足弓垫的内侧高度略高于外侧,可以保证治疗效果,同时还可以塑造完美的足型。

所述足弓垫的材料为硅胶或其他合适材料。硅胶材料可以保证人体在行走时足部的舒适性。

所述足拇指套与所述第一绑带、第二绑带的连接方式为粘接。其粘接方式可以为现有技术下任意合适的方式,例如在所述足拇指套上设置粘接的毛面,在所述第一绑带、第二绑带上设置粘接的勾面,根据不同的足部形状调节毛面与勾面的粘接区域以适应不同大小的足部。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于张恩铭;孙超,未经张恩铭;孙超许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520959816.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top