[实用新型]蒸镀机的喷嘴系统

说明书

技术领域

本申请涉及PVD(PhysicalVaporDeposition)领域，尤其涉及一种蒸镀机的 喷嘴系统。

背景技术

真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内蒸发材料的 原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。

蒸发镀膜是通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面的一种真空镀膜 技术。蒸发材料如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源。待镀 工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待坩埚抽至高真空后，加热 坩埚使其中的蒸发材料进而从喷嘴喷出。蒸发材料的原子或分子以冷凝方式沉 积在基片表面。

如图1和图2所述为一种蒸镀机的喷嘴系统的示意图。

线源21作为蒸发材料收纳于坩埚12内。待坩埚12抽至高真空后，加热 器13加热坩埚12使线源21蒸发进而从喷嘴11喷出，线源21的原子或分子 以冷凝的方式沉积在待镀工件表面。

在实现现有技术过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题：

坩埚12局部加热不均匀时，或者，由于喷嘴11设置的倾斜角度不合理时， 导致喷嘴11内蒸发材料分布不均匀，容易导致喷嘴11堵塞。当碰嘴11堵塞 时，需要先降低坩埚12的温度以免烫伤操作人员。接着，需要破除坩埚12内 的真空，否则由于坩埚12内外气压差，不易除去喷嘴11内的堵塞。破除真空 时，有大量保持真空的氮气逸出，因此，需要等待氮气完全逸出后，才能采取 去除堵塞的动作，否则容易导致操作人员窒息。去除堵塞后，需要抽取坩埚 12内空气，保持坩埚12内真空环境，然后，加热使得坩埚12升温以便蒸发 材料蒸发从而开始工作。从坩埚12降温、破除真空、去除堵塞、抽真空、坩 埚12升温完成整个堵塞去除的时间较长。

因此，需要提供一种解决喷嘴11堵塞处理时间长的技术问题的技术方案。

实用新型内容

本申请实施例提供一种解决喷嘴堵塞处理时间长的技术问题的蒸镀机的 喷嘴系统。

具体的，一种蒸镀机的喷嘴系统，包括：

具有用于收容蒸镀材料的容纳腔的载具；

布设于载具周围的用于加热蒸镀材料的蒸镀加热器；

安装于载具并用于供蒸镀材料从载具中喷出的喷嘴；

用于推出喷嘴内堵塞的推出装置。

优选的，所述推出装置包括：

用于在喷嘴内滑动的顶针；

用于带动顶针往复的推杆；

用于为推杆提供动力的动力机构。

优选的，所述动力机构包括与推杆固定连接的活塞、供活塞运动的气缸。

优选的，所述动力机构经过一个周期推动推杆往复运动；

推杆带动顶针在喷嘴内滑动。

优选的，所述载具为坩埚；

所述坩埚包括坩埚主体和坩埚盖；

所述喷嘴系统还包括气压传感器；

气压传感器安装于坩埚盖，用于当坩埚主体内的气压超过阈值时发出侦测 信号。

优选的，所述喷嘴系统还包括逻辑控制器；

所述逻辑控制器用于接收坩埚主体内的气压超过阈值的侦测信号，并向推 出装置发出运动的控制信号。

优选的，所述气压传感器的耐高温指标高于400℃。

本申请实施例提供的蒸镀机的喷嘴系统，至少具有如下有益效果：

当喷嘴发生堵塞时，推出装置将喷嘴内堵塞推出，从而可以解决喷嘴堵塞 处理时间长的技术问题。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分， 本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限 定。在附图中：

图1为本申请实施例改进前的喷嘴系统示意图。

图2为图1的剖视图。

图3为本申请实施例提供的喷嘴系统的喷嘴的示意图。

图4为本申请实施例提供的喷嘴系统的整体示意图。

具体实施方式

为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请具体实 施例及相应的附图对本申请技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的 实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施 例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施 例，都属于本申请保护的范围。