[实用新型]单晶硅、多晶硅简谐式除尘器

说明书

技术领域

本实用新型涉及工业生产中粉尘除尘器技术领域，属于单晶硅、多晶硅工 业生产中工艺粉尘处理的简谐式除尘器。

背景技术

现有的工业除尘器按除尘作用力原理可分为“干式”和“湿式”两种基 本类型。干法除尘以工作原理分，包括重力式、惯性式、离心式、袋式、静电 式等。湿式除尘是通过喷淋液体进行除尘。

而袋式除尘器适用于捕集细小、干燥、非纤维性粉尘。对细粉尘除尘效率 高，一般达99％以上，可以用在净化要求很高的场合。适应性强，可捕集各类 性质的粉尘，且不因粉尘的比电阻等性质而影响除尘效率，适应的烟尘浓度范 围广。便于回收物料，没有污染、废水等二次污染。但袋式除尘器一般是用于 常压状态下使用，还没有用在真空状态下的情况。

单晶硅、多晶硅的生产过程中要求较高的工艺环境。整个生产过程需在真 空环境下且气压不能有剧烈变化。原料硅在加热过程中会产生少量持续性挥 发，挥发物离开坩埚后会冷却凝聚成细小粉尘，并最终进入真空泵混入真空油。 被污染的真空油不仅增加真空泵的磨损，更重要的是真空油被污染到一定程度 将极大影响真空泵的工作能力。现阶段单晶硅、多晶硅的连续生产时间约为 140h，超过此时限真空泵会因真空油的污染而影响工作能力，导致无法产生单 晶硅、多晶硅生产所需的真空环境。此时将被迫停炉，更换真空油方能继续生 产。

目前，单晶硅、多晶硅的除尘是通过简单的过滤器进行除尘，其除尘效果 差，难以满足使用要求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种单晶硅、多晶硅简谐式除尘器，它在坩埚 和真空泵之间构建一过滤系统，有效过滤挥发的硅粉尘，实现在线清灰，降低 真空油的污染，极大延长真空泵的连续工作时间从而延长单晶硅、多晶硅的连 续生产时间，并减少频繁更换真空油的设备、时间、人工、原料成本。

为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种单晶硅、多晶硅简谐式除尘器，其特征在于，它包括有能承受真空负 压的壳体(1)，在壳体内的下部设有浊气室(2)，浊气室(2)侧壁设有进 气口(4)，在进气口(4)下部设有清灰口(3)，在壳体内的进气口(4)上 部装有花板(5)，该花板(5)将壳体(1)分割为上部净气室(7)及下部浊 气室(2)；该花板(5)上端与布袋(6)下端相连，该布袋(6)上端通过连 杆(8)与活动吊架(9)相连；该活动吊架(9)通过弹簧(10)与上端的固 定吊架(11)相连，该固定吊架(11)两端固定在壳体(1)内侧壁上；在壳 体(1)的上部连接有封头(12)，该封头(12)上装有出气口(13)，在封 头(12)内还装有密封的电磁铁(14)，该电磁铁(14)的下端连接有推杆(15)， 该推杆(15)的下端设置在活动吊架(9)上。

其中，所述的布袋(6)通过下部卡箍与花板(5)上的开孔紧密连接，布 袋上端为封闭状。

其中，活动吊架(9)通过连杆(8)将若干数量布袋(6)连接为一个整 体。

其中，弹簧(10)将活动吊架(9)与固定吊架(11)连接，并通过弹簧 (10)的拉力使布袋(6)单向拉伸。

其中，所述进气口(4)与加热炉出口相连，出气口(13)与真空泵相连。

其中，加热炉工作时产生的尘气由进气口(4)进入浊气室(2)，浊气通 过布袋(6)过滤进入净气室(7)，粉尘杂质留在布袋(6)内侧，净气通过 出气口(13)最终进入真空泵。

本实用新型的有益效果是：使用本实用新型的谐振式除尘器过滤单晶硅、 多晶硅的生产过程中产生的硅粉尘，极大减少了其对真空油的污染，在极大延 长真空油的更换周期同时最重要的是极大延长了单晶硅、多晶硅的连续生产时 间，大大降低设备、时间、人工、原料成本。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

附图标号：1、除尘器壳体；2、浊气室；3、清灰口；4、除尘器入口；5、 花板；6、布袋；7、净气室；8、连杆；9、活动吊架；10、弹簧；11、固定吊 架；12、顶盖；13、除尘器出口；14、电磁铁；15、推杆。

具体实施方式