[实用新型]集成电路有效

专利信息
申请号: 201520946134.2 申请日: 2015-11-24
公开(公告)号: CN205248263U 公开(公告)日: 2016-05-18
发明(设计)人: A·帕加尼;G·吉兰多;F·G·齐格利奥利;A·菲诺基亚洛 申请(专利权)人: 意法半导体股份有限公司
主分类号: H01L23/58 分类号: H01L23/58;H01L23/66
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 意大利阿格*** 国省代码: 意大利;IT
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 集成电路
【权利要求书】:

1.一种集成电路IC,其特征在于,包括:

半导体衬底,具有形成在所述半导体衬底中的电路;

至少一个互连层,在所述半导体衬底上方并且包括耦合到所述电路的天线;

密封环,在所述至少一个互连层的外围周围;以及

至少一个电绝缘沟槽,竖直地延伸到所述半导体衬底中并且从所述半导体衬底的相邻 的一侧向所述半导体衬底的相邻的另一侧横向地延伸跨过所述半导体衬底。

2.根据权利要求1所述的IC,其特征在于,所述至少一个电绝缘沟槽从所述半导体衬底 的一侧边缘向另一侧边缘横向地延伸。

3.根据权利要求1所述的IC,其特征在于,所述电路包括收发器电路以及耦合到所述收 发器电路的压力传感器电路。

4.根据权利要求1所述的IC,其特征在于,所述至少一个电绝缘沟槽包括多个电绝缘沟 槽。

5.根据权利要求1所述的IC,其特征在于,所述至少一个电绝缘沟槽包括多个交叉的电 绝缘沟槽。

6.根据权利要求1所述的IC,其特征在于,所述至少一个电绝缘沟槽从所述半导体衬底 的顶表面竖直地延伸。

7.根据权利要求1所述的IC,其特征在于,所述至少一个电绝缘沟槽从所述半导体衬底 的底表面竖直地延伸。

8.根据权利要求1所述的IC,其特征在于,所述至少一个电绝缘沟槽具有锥形侧壁。

9.根据权利要求1所述的IC,其特征在于,所述密封环包括连续的电传导环。

10.根据权利要求1所述的IC,其特征在于,所述密封环包括非连续的电传导环。

11.根据权利要求1所述的IC,其特征在于,所述IC还包括在所述至少一个互连层之上 的钝化层。

12.一种集成电路IC,其特征在于,包括:

半导体衬底,具有形成在所述半导体衬底中的电路,所述电路包括收发器电路以及耦 合到所述收发器电路的压力传感器电路;

至少一个互连层,在所述半导体衬底上方并且包括耦合到所述收发器电路的天线;

密封环,在所述至少一个互连层的外围周围;以及

至少一个电绝缘沟槽,竖直地延伸到所述半导体衬底中并且从所述半导体衬底的一侧 边缘向所述半导体衬底的另一侧边缘横向地延伸跨过所述半导体衬底。

13.根据权利要求12所述的IC,其特征在于,所述至少一个电绝缘沟槽包括多个电绝缘 沟槽。

14.根据权利要求12所述的IC,其特征在于,所述至少一个电绝缘沟槽包括多个交叉的 电绝缘沟槽。

15.根据权利要求12所述的IC,其特征在于,所述至少一个电绝缘沟槽从所述半导体衬 底的顶表面竖直地延伸。

16.根据权利要求12所述的IC,其特征在于,所述至少一个电绝缘沟槽从所述半导体衬 底的底表面竖直地延伸。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于意法半导体股份有限公司,未经意法半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520946134.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top